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文檔簡(jiǎn)介
1、本文使用器件模擬軟件ISE,建立了射頻LDMOS的器件模型,比較了射頻LDMOS器件的擊穿電壓和襯底濃度、漂移濃度、溝道濃度的關(guān)系,通過(guò)對(duì)各個(gè)參數(shù)的模擬比較,得到了優(yōu)化的射頻LDMOS結(jié)構(gòu),在大量模擬實(shí)驗(yàn)的基礎(chǔ)上,為最終射頻LDMOS的設(shè)計(jì)奠定了數(shù)據(jù)基礎(chǔ)。 文章使用二維器件模擬軟件ISE,模擬并研究了RF-LDMOS柵漏電容Cgd和柵源電容Cgs與柵源電壓Vgs及漏源電壓Vds的關(guān)系;研究了柵氧化層厚度,漂移區(qū)濃度,溝道區(qū)濃度等
2、參數(shù)對(duì)Cgd的影響。 本文研究了60 V-LDMOS器件在ESD(electrostatic discharge)應(yīng)力下的擊穿機(jī)理,并分析比較了目前流行的LDMOS器件的靜電保護(hù)結(jié)構(gòu):深漏極的雙RESURF結(jié)構(gòu)、SCR-LDMOS結(jié)構(gòu)、HST-LDMOS結(jié)構(gòu),提出了適合我們自己開(kāi)發(fā)的LDMOS的靜電保護(hù)方案。 本文提出并研究了采用雙RESURF技術(shù)的槽柵橫向雙擴(kuò)散MOSFET(DRTG-LDMOS)。與傳統(tǒng)的LDMOS器
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