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文檔簡介
1、靜電放電(簡寫為ESD)是集成電路(簡寫為IC)在制造、運(yùn)輸、以及使用過程中經(jīng)常發(fā)生并導(dǎo)致IC芯片損壞或失效的重要原因之一。工業(yè)調(diào)查表明大約有40﹪的IC失效與ESD/EOS(過強(qiáng)的電應(yīng)力)有關(guān)。因此,為了獲得性能更好更可靠的IC芯片,對ESD開展專門研究并找到控制方法是十分必要的。隨著芯片尺寸的持續(xù)縮小,ESD問題表現(xiàn)得更加突出,已成為新一代集成電路芯片在制造和應(yīng)用過程中需要重視并著力解決的一個重要闖題。 本論文以ESD保護(hù)器
2、件作為研究對象,詳細(xì)分析了接地柵NMOS作為保護(hù)器件在瞬態(tài)高強(qiáng)度ESD應(yīng)力作用下的電學(xué)和熱學(xué)行為,給出了這種保護(hù)器件對持續(xù)時間約100ns、強(qiáng)度約上千伏的ESD應(yīng)力的瞬態(tài)響應(yīng)過程;研究了觸發(fā)后寄生橫向NPN晶體管的導(dǎo)通過程、放電過程中的溫度變化以及瞬態(tài)應(yīng)力對電場分布、電流分布、溫度分布造成的影響;分析討論了二次擊穿的發(fā)生條件;給出了器件制造參數(shù)如襯底摻雜濃度對放電行為的影響并做了相應(yīng)討論。 論文所做的研究工作和取得的結(jié)果完全基于
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