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文檔簡介
1、本文以鈦酸四丁酯為鈦源,聚乙二醇(PVA)-碘為修飾劑,采用水熱制備了碘摻雜介孔TiO2催化劑。利用TG-DTA、FE-SEM、UV-Vis、XRD、BET、XPS等手段對所合成的催化劑進行表征??疾炝舜呋瘎┰谀M太陽光光照下,對四環(huán)素光催化活性。結果表明:PVA加入量為0.8g,KI與I2的質量比為2,煅燒溫度為200℃,制備的PVA-I修飾TiO2為銳鈦礦介孔材料,比表面積、孔徑和孔容分別為221.49m2·g-1、41.96nm和
2、0.2324cm3·g-1,禁帶寬度為1.35eV。介孔TiO2催化劑重復使用4次,四環(huán)素的去除率在90%以上。
用PVA-I修飾的介孔TiO2作為光催化降解的催化劑,以400W金鹵燈為模擬太陽光光源,研究四環(huán)素的光催化降解。探討了反應過程中不同條件、催化劑用量、初始pH、初始濃度和共存離子等對四環(huán)素的光催化降解的影響。結果表明:在0.1g·L-1四環(huán)素的溶液初始pH值為4,催化劑投加量1g·L-1時,光催化反應60min,四
3、環(huán)素的去除率達到96.7%,溶液中NO3-、SO42-和PO43-對四環(huán)素的光催化降解有明顯的抑制作用。通過對四環(huán)素降解的機理分析,推測出四環(huán)素光催化降解的兩條途徑:一是四環(huán)素取代基的脫除;二是四環(huán)素多環(huán)的斷裂。
利用PVA-I修飾的介孔TiO2催化劑,對四環(huán)素、鹽酸土霉素、鹽酸金霉素、鹽酸四環(huán)素的光解、吸附和光催化降解研究以及降解過程中溶液毒性分析測定,初步探明不同四環(huán)素類抗生素的光催化降解的毒性變化。結果表明:不同結構的四
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