額竇氣化與嗅凹深度關(guān)系的影像解剖學(xué)研究.pdf

1、目的:
　　 本課題是分析額篩區(qū)與額竇高度氣化之間相關(guān)性的影像解剖學(xué)研究。嗅凹深度和額竇氣化之間的相關(guān)性的影像解剖學(xué)研究。
　　 方法:
　　 收集本院100例(男49例,女51例；年齡19～65歲)患者鼻竇CT,所有患者行螺旋CT(層厚1.25mm,層距0.625mm,骨窗窗位)用AW4.2工作軟件冠狀位1.0mm重建,患者頭顱無畸形及外傷改變,鼻竇內(nèi)無腫瘤、鼻息肉、腦脊液鼻漏、骨質(zhì)增生、骨質(zhì)疏松及明顯的炎癥病

2、變(這些病變可能導(dǎo)致頭顱解剖結(jié)構(gòu)變異)。回顧性分析100例患者200側(cè)的鼻竇冠狀位CT,選取有雞冠,中鼻甲,眶板解剖結(jié)構(gòu)清楚的第1張CT層面作為第1測量層面,最后1張出現(xiàn)中鼻甲層面為第2測量層面。根據(jù)Keros將嗅凹分為3種類型劃分3組,Ⅱ型嗅凹深度≤3mm為第1組；Ⅱ型嗅凹深度4-7mm為第2組；Ⅲ型嗅凹深度≥8mm為第3組。測量兩個層面嗅凹的深度取均值分組,每位患者每一測量層面左右兩側(cè)在冠狀位上測量眶板垂直切線與前顱底交點,這點與中

3、鼻甲骨質(zhì)篩板附著點的連線與水平線的夾角(中鼻甲角)、眶板垂直切線與中鼻甲骨質(zhì)篩板附著點之間的水平距離。
　　 結(jié)果:
　　 眶板垂直切線與前顱底交點,這點與中鼻甲骨質(zhì)篩板附著點的連線與水平線的夾角在第1組(嗅凹深度≤3mm)是(34.52±5.09)0;這個角在第2組(嗅凹深度4-7mm)是(42.80±6.19)0；這個角在第3組(嗅凹深度度≥8mm)是(52.80±4.89)0。
　　 3組額竇高度氣化率分別

4、是:4.12％；24.3％；38.8％。3組額竇高度氣化率的比較:經(jīng)X2檢驗,Ⅰ、Ⅱ型嗅凹額竇高度氣化率有顯著差異X2=5.024,P<0.05。Ⅰ、Ⅲ型嗅凹額竇高度氣化率有顯著差異X2=10.16,P<0.05。Ⅱ、Ⅲ型嗅凹額竇高度氣化率有顯著差異X2=3.88,P<0.05。
　　 眶板垂直切線與中鼻甲骨質(zhì)篩板附著點之間的水平距離左側(cè)(10.12±1.44)mm、右側(cè)(11.18±1.45)mm。
　　 結(jié)論:

5、>　　 1、嗅凹深度不同,中鼻甲角值也不同,隨著嗅凹深度的增加中鼻甲角變大,兩者之間有相關(guān)性。
　　 2、中鼻甲角的大小和額竇氣化率相關(guān),中鼻甲角較小的額竇高度氣化率較小,嗅凹的深度也較淺。
　　 3、三組額竇高度氣化率有統(tǒng)計學(xué)差異。額竇高度氣化率隨著中鼻甲角的增大而增大,額竇高度氣化率同時也隨著嗅凹深度的加深而增大。若患者中鼻甲角較大,同時額竇又高度氣化,這要引起術(shù)者的高度注意,鼻內(nèi)鏡手術(shù)發(fā)生顱底損傷腦脊液瘺的機率越