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1、西安電子科技大學(xué)碩士學(xué)位論文介質(zhì)材料電噪聲測試技術(shù)及其應(yīng)用研究姓名:王棟申請學(xué)位級別:碩士專業(yè):材料科學(xué)與工程指導(dǎo)教師:杜磊20080101AbstractWithindepthstudyofthenoisetheoryitwasfoundthatlowfrequencynoisecanbeasensitivereflectionofinternaldefectsinelectroniccomponents,includingmater
2、ialdefectandpotentialdefectsinthedeviceduringmanufactureoroperation,thefailureofmostelectroniccomponentsiscausedbythosedefects,thereforemeasurementoflowfrequencynoiseofelectronicdevicesCallreflectitsintrinsicqualityandre
3、liabilityNoisemeasurelTtentforcharaeterizationthereliabilityofelectronicdeviceshasbeenawiderangeofresearchandapplicationinworldwideSomeconventionalelectroniccomponentsnoisemeasurementmethodisrelativelymaturesuchas:MOSFET
4、,Optocouplerfilmandthick—filmresistance,polycrystallinesemiconductormaterialsHowevertherestillhavealotofnoisemeasurementunresolvedisSues,suchas:verylowresistance(metalcontact),dielectricmaterials(capacitors),theminimumcu
5、rrent(antipartialsemiconductorjunction)andthegreatcurrent(powerdevice),andsoollThisPaperstudyondielectricmaterials(capacitors)noisemeasurementproblem,mainlycompletedthefollowingwork:1Detailedanalysisofthetraditionalnoise
6、measurementwhyfailedinmeasBredielectricmaterials(capacitors),andthrou豳in—depthstudythenoisemeasureandcharacterizationtechnologydesignedandachievecurrentnoisemeasuresystems2IntheultrathinSi02gatedielectriclayerleakagecurr
7、entnoisemeasurementswefoundinsmallstressconditionsthenoisespectrumshowinga,fnoisecharacteristics,andthenoiseincreasewithvoltagestressgrowinginlargervoltagestress,observedthestress—inducedleakagecurrent,andfoundRTSnoisein
8、thestressinducedeakagecurrent。3ByanalysistheRTSnoisesignalintime/frequencydomain,wefoundthatthetrap—assistedtunnelingistheresoncausedRTSnoisestressproducedtheSi02layerofsiliconspacetraps,whichtrapandemittingelectronicsca
9、usedtheRTSnoise;andwealsofoundthesiliconvacancytrapsintheSi02layerassociatewithvoltagestressWhenincreaseofvoltagestressthenumberoftrapswillalsobeincreased4Wealsomeasurenoiseinsolidtantalumelectrolyticcapacitorsbythismeth
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