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1、大功率半導(dǎo)體量子阱激光器是一種性能優(yōu)越的發(fā)光器件,具有壽命長(zhǎng)、閾值電流密度低、效率高、亮度高以及良好的單色性、相干性、方向性等特點(diǎn),廣泛應(yīng)用于軍事、工業(yè)加工、通信及信息處理、醫(yī)療保健等領(lǐng)域.材料的外延生長(zhǎng)是整個(gè)激光器器件制作的基礎(chǔ),對(duì)器件的光學(xué)和電學(xué)性能有著重要的影響,生長(zhǎng)不出優(yōu)質(zhì)的材料體系,獲得高性能的器件就無(wú)從談起,因此,材料的外延生長(zhǎng)便成為了整個(gè)半導(dǎo)體激光器制作過(guò)程之中的重中之重.MOCVD外延生長(zhǎng)技術(shù)是目前發(fā)展水平較為成熟、外延
2、質(zhì)量較高的一種外延生長(zhǎng)方法,對(duì)MOCVD技術(shù)的研究也成為了國(guó)內(nèi)外研究的重點(diǎn).目前,中國(guó)電子科技集團(tuán)第十三研究所光電專(zhuān)業(yè)部擁有具有世界先進(jìn)水平的AIXTRON-2000型MOCVD外延生長(zhǎng)設(shè)備,并且在量子阱激光器的研究中獲得過(guò)大量的研究成果,有著豐富的實(shí)踐經(jīng)驗(yàn),因此,保證了對(duì)MOCVD外延技術(shù)研究的理論及實(shí)驗(yàn)條件.本文對(duì)發(fā)光波長(zhǎng)為940nm的量子阱激光器材料結(jié)構(gòu)進(jìn)行了設(shè)計(jì),采用分別限制異質(zhì)單量子阱(SCH-SQW)結(jié)構(gòu)、In<,0.15>
3、Ga<,0.85>As量子阱,阱寬經(jīng)計(jì)算得80A.然后在不同的有源區(qū)生長(zhǎng)溫度、Ⅴ/Ⅲ比、摻雜方式及濃度情況下對(duì)激光器材料進(jìn)行外延生長(zhǎng),并利用光熒光(PL)技術(shù)對(duì)不同生長(zhǎng)條件下外延材料的光致發(fā)光特性進(jìn)行了測(cè)試對(duì)比,結(jié)果表明在下列條件下生長(zhǎng)出來(lái)的材料具有更好的光學(xué)和電學(xué)性能:有源區(qū)生長(zhǎng)溫度在700°C、波導(dǎo)層Ⅴ/Ⅲ比選擇為60、n型波導(dǎo)漸變摻雜190sccm-590sccm的SiH<,4>、p型波導(dǎo)漸變摻雜90sccm-490sccm的DM
4、Zn.另外本文還對(duì)光波導(dǎo)模式理論進(jìn)行了理論分析和計(jì)算,得到了量子阱激光器光場(chǎng)分布的波動(dòng)方程,利用逐步逼近的方法推導(dǎo)出了遠(yuǎn)場(chǎng)分布的數(shù)值模型,通過(guò)計(jì)算機(jī)軟件模擬出了激光器遠(yuǎn)近場(chǎng)分布圖,并利用模式擴(kuò)展層對(duì)光場(chǎng)的限制作用得到了窄遠(yuǎn)場(chǎng)發(fā)散角(約為21°)的量子阱激光器材料結(jié)構(gòu).對(duì)于本文中采用的分別限制單量子阱發(fā)光波長(zhǎng)940nm半導(dǎo)體激光器的波導(dǎo)結(jié)構(gòu),利用該理論方法進(jìn)行模擬對(duì)比后,得到當(dāng)波導(dǎo)層Al組分為0.25寬度為150nm時(shí)遠(yuǎn)場(chǎng)發(fā)散角為35.8
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