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1、寬帶Ⅱ-Ⅵ族半導(dǎo)體材料,尤其是ZnSe和ZnTe及其合金具有寬帶隙、直接帶躍遷、激子束縛能大等優(yōu)點(diǎn)而作為藍(lán)和藍(lán)綠發(fā)光、激光以及在該波段響應(yīng)的光學(xué)雙穩(wěn)和光學(xué)非線性的重要候選材料。以往的寬帶Ⅱ-Ⅵ族半導(dǎo)體都是以GaAs為襯底材料的,這就造成了寬帶Ⅱ-Ⅵ族半導(dǎo)體光電子材料與Si基微電子技術(shù)的分離。為了解決這一問(wèn)題,人們嘗試在Si襯底上進(jìn)行光子材料的制備。本文中,我們利用ZnO與Si襯底上氧化層—SiO_x有很好的浸潤(rùn)性這一特點(diǎn),采用ZnO作為
2、緩沖層,用低壓-金屬有機(jī)物氣相沉積(LP-MOCVD)設(shè)備在Si襯底上生長(zhǎng)ZnSe和ZnTe薄膜以及ZnCdSe/ZnSe和ZnCdTe/ZnTe量子阱結(jié)構(gòu),并對(duì)其發(fā)光特性進(jìn)行了研究,獲得的主要研究結(jié)果如下:1、在Si襯底上獲得了較高質(zhì)量的ZnO薄膜。采用對(duì)Si襯底進(jìn)行氮化的方法,利用MO-PECVD生長(zhǎng)ZnO薄膜,其XRD譜的FWHM為0.20°。采用電子束蒸發(fā)的方法在Si襯底上生長(zhǎng)ZnO薄膜,通過(guò)退火實(shí)驗(yàn),得到了最佳的退火條件。2、
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