PCB數(shù)字光刻投影光學(xué)設(shè)計及其掃描與控制技術(shù)研究.pdf

1、隨著個人電子設(shè)備朝多功能、微型化、輕薄化、系統(tǒng)高度集成化方向發(fā)展，高端個人電子產(chǎn)品，例如下一代智能手機、iPad、iPhone、數(shù)碼相機等，其制造商需要生產(chǎn)出功能強大、但更節(jié)能的產(chǎn)品。然而面向下一代高端個人電子產(chǎn)品的制造，最重要的技術(shù)當(dāng)屬印刷電路板(PCB)的光刻。傳統(tǒng)PCB光刻采用的是汞燈接近式的曝光技術(shù)，成本高、其光刻精度低，對環(huán)境污染大。而數(shù)字光刻無論從成本，精度，亦或是生產(chǎn)效率和對環(huán)境的影響，都有著傳統(tǒng)PCB光刻無法比擬的優(yōu)勢。

2、因此針對PCB制造進行數(shù)字光刻相關(guān)技術(shù)研究具有非常重要的意義。
　　基于初級像差理論本文設(shè)計了一組適合0.7XGA DMD的光刻投影物鏡，該投影物鏡組具有雙高斯對稱結(jié)構(gòu)。此結(jié)構(gòu)是最容易消除五種初級像差的初始結(jié)構(gòu)。由于只是滿足微米級PCB光刻的需要，該投影物鏡組放大率為-1，且不用非球面鏡即能讓物鏡達到13.68μm的精度。它總共由8片鏡片組成，前4片與后4片關(guān)于中心光闌對稱，因此在加工時只需加工4個透鏡的模具，這樣既可以降低成本，

3、又有利于光刻系統(tǒng)中透鏡的裝配。
　　基于DMD的工作方式進行了數(shù)字光刻掃描技術(shù)研究，提出傾斜掃描的技術(shù)，它的優(yōu)勢是消除了DMD的柵格效應(yīng)，提高了成像質(zhì)量。結(jié)合所設(shè)計投影物鏡組它既能實現(xiàn)整數(shù)倍像素以外的線寬，又能提高圖像的分辨率。在DMD傾斜掃描模式下進行了光刻實驗，取得了良好的實驗結(jié)果，實現(xiàn)了非整數(shù)線寬，和其他方法用于該精度的曝光情形相比，像面照度均勻，線條清晰，邊緣陡峭且線性度好，因而能很好地滿足光刻的需要。
　　數(shù)字無掩