八階二元光學器件的光刻技術研究.pdf_第1頁
已閱讀1頁，還剩74頁未讀， 繼續(xù)免費閱讀

下載本文檔

版權說明：本文檔由用戶提供并上傳，收益歸屬內容提供方，若內容存在侵權，請進行舉報或認領

文檔簡介

1、本文介紹了二元光學的發(fā)展狀況以及制作二元光學器件的主要方法，特別是對激光直寫制作掩模、光刻和蝕刻成型技術進行了詳細的分析與研究。 首先針對紅外折/衍混合光學系統(tǒng)中八臺階二元光學器件以及光刻制作的特點，對光刻掩模進行了結構參數(shù)的優(yōu)化設計，并采用激光直寫方法制作出了掩模。同時解決了相應的掩模對準問題。 詳細論述了光刻工藝過程，并對抗蝕劑涂布、曝光及顯影等關鍵技術環(huán)節(jié)進行了研究，分析了各環(huán)節(jié)不同工藝參數(shù)對光刻圖形質量的影響，并

溫馨提示

  • 1. 本站所有資源如無特殊說明，都需要本地電腦安裝OFFICE2007和PDF閱讀器。圖紙軟件為CAD,CAXA,PROE,UG,SolidWorks等.壓縮文件請下載最新的WinRAR軟件解壓。
  • 2. 本站的文檔不包含任何第三方提供的附件圖紙等，如果需要附件，請聯(lián)系上傳者。文件的所有權益歸上傳用戶所有。
  • 3. 本站RAR壓縮包中若帶圖紙，網頁內容里面會有圖紙預覽，若沒有圖紙預覽就沒有圖紙。
  • 4. 未經權益所有人同意不得將文件中的內容挪作商業(yè)或盈利用途。
  • 5. 眾賞文庫僅提供信息存儲空間，僅對用戶上傳內容的表現(xiàn)方式做保護處理，對用戶上傳分享的文檔內容本身不做任何修改或編輯，并不能對任何下載內容負責。
  • 6. 下載文件中如有侵權或不適當內容，請與我們聯(lián)系，我們立即糾正。
  • 7. 本站不保證下載資源的準確性、安全性和完整性, 同時也不承擔用戶因使用這些下載資源對自己和他人造成任何形式的傷害或損失。

評論

0/150

提交評論