光刻激光及其光學(xué)器件物理特性研究.pdf

1、隨著微電子技術(shù)和微光學(xué)的迅速發(fā)展，光刻技術(shù)已經(jīng)成為大規(guī)模、超大規(guī)模集成電路和微光學(xué)元件制作過程中的一項(xiàng)關(guān)鍵技術(shù)。光刻光學(xué)器件作為光刻系統(tǒng)的一部分，在光刻技術(shù)中扮演著重要的角色。準(zhǔn)分子激光作為光源用于掩模光刻時(shí)，其光能分布的均勻性是十分重要的。近年來，空間光調(diào)制器DMD作為無掩模光刻的圖像發(fā)生器，其應(yīng)用也越來越受到廣泛關(guān)注。因此研究和探索光刻激光及其光學(xué)器件（聲光器件，DMD）的物理特性，具有非常重要的意義。
　　本文針對(duì)實(shí)驗(yàn)室的X

2、eF準(zhǔn)分子激光器的光束特性，提出了以衍射光學(xué)理論為基礎(chǔ)并采用聲光器件作為均束器的均束方法，還針對(duì)無掩模數(shù)字光刻中DMD的特性和應(yīng)用做了詳細(xì)的研究。本文主要工作如下:
　　1.概述XeF準(zhǔn)分子激光器的特點(diǎn)，針對(duì)準(zhǔn)分子激光器輸出光束的物理特性介紹部分相干光束的基本理論及描述部分相干光束的高斯-謝爾模型，分析激光傳輸?shù)难芯糠椒ā苌浞e分法，為準(zhǔn)分子激光通過超聲光柵衍射分析提供理論依據(jù)。
　　2.從理論上闡述聲光器件的聲光衍射原理及

3、拉曼-納斯衍射，詳細(xì)分析聲光介質(zhì)的聲學(xué)和光學(xué)性能，探討聲光玻璃和聲光晶體的優(yōu)缺點(diǎn)以及常用聲光介質(zhì)的聲光性能，通過比較得出熔石英晶體是適用于XeF準(zhǔn)分子激光均束的聲光介質(zhì)材料。
　　3.建立準(zhǔn)分子激光通過超聲光柵衍射的理論模型，提出一種新的簡(jiǎn)單的數(shù)值模擬方法，并用Matlab進(jìn)行模擬。數(shù)值模擬結(jié)果表明輸出光束的光強(qiáng)分布與相干寬度、拉曼-納斯綜合參數(shù)、衍射距離、超聲波頻率有關(guān)，通過控制這些參數(shù)可以得到平頂?shù)墓鈴?qiáng)分布，這對(duì)聲光調(diào)制器的參