大面積高精度PCB光刻技術(shù)的研究.pdf

1、近年來(lái)，隨著智能手機(jī)、平板電腦等高端電子產(chǎn)品的出現(xiàn)，要求印制電路板(PCB)的走線越來(lái)越窄，目前部分PCB產(chǎn)品的線寬已經(jīng)小于10μm，今后10內(nèi)10μm左右線寬的PCB將越來(lái)越流行，這類高密度PCB有著很好的市場(chǎng)前景。傳統(tǒng)的汞燈照明+接近式曝光方法已經(jīng)不能勝任這類高密度PCB生產(chǎn)的要求，為應(yīng)對(duì)今后高端電子產(chǎn)哭品對(duì)大面積高密度PCB需求，需要快速改進(jìn)目前的PCB生產(chǎn)設(shè)備，并從經(jīng)濟(jì)方面考慮，研究出一些價(jià)廉物美的PCB生產(chǎn)設(shè)備，以滿足我國(guó)PC

2、B行業(yè)需求。
　　 本文重點(diǎn)研究10μm左右線寬的大面積高精密光刻機(jī)，主要內(nèi)容包括投影物鏡、和精密二維位移平臺(tái)。本文第三章介紹了了一種分辨率為4μm的DMD投影物鏡的設(shè)計(jì)。該投影物鏡的單次曝光面積Φ=5mm，該投影物鏡可以用于10μm左右線寬PCB的掩模板生產(chǎn)，適用于10μm左右線寬PCB的小規(guī)模打樣，也可用于TFT-LCD的生產(chǎn);本文第四章介紹了一種分辨率為8μm的等比投影光刻投影物鏡設(shè)計(jì)，該投影物鏡的單次曝光面積Φ=40mm

3、，可以用于10μm左右線寬PCB的大規(guī)模生產(chǎn)，也可用于ITO-LCD的生產(chǎn);本文第五章介紹了一種坐標(biāo)反饋大行程精密二維位移平臺(tái)設(shè)計(jì)，該平臺(tái)的的行程為1100*600mm，定位精度達(dá)2μm，滿足大面積高精密PCB的生產(chǎn)要求。該平臺(tái)的驅(qū)動(dòng)方式采用本文獨(dú)創(chuàng)的爬行牽引方式，可以使制造成本減少1/3以上，有著很好的應(yīng)用前景。
　　 通過(guò)ZEMAX光學(xué)設(shè)計(jì)軟件模擬，得到DMD光刻投影物鏡在空間頻率為125line/mm處的MTF＞0.62，

4、表明該投影物鏡具有優(yōu)于4μm的分辨率;通過(guò)離焦MTF分析，表明在空間125line/mm處，離焦量在-0.011到+0.017的范圍內(nèi)，MTF＞0.5，表明該投影物鏡至少有28μm的焦深。通過(guò)ZEMAX光學(xué)設(shè)計(jì)軟件模擬，等比投影物鏡在空間頻率為641ine/m處的MTF＞0.56，表明該投影物鏡具有優(yōu)于8μm的分辨率;通過(guò)離焦MTF分析，表明在空間125line/mm處，離焦量為-0.06到+0.02的范圍內(nèi)，MTF＞0.5，表明該投影