基于準分子激光投影掃描系統(tǒng)的大面積ITO及TFT光刻的研究.pdf

1、光刻工藝為平板顯示制造業(yè)中的核心工藝。平板顯示發(fā)展的趨勢是大面積和高分辨率。本文針對平板顯示制造業(yè)，基于激光投影掃描系統(tǒng)的優(yōu)勢，對大面積ITO和TFT的光刻進行研究。主要研究內(nèi)容如下：
　　 在不影響生產(chǎn)效率的前提下，對現(xiàn)有的曝光機的掃描方法改進，提出了一種可以提高均勻性的二維掃描方法，從X和Y兩個維度掃描補償了由于掃描平穩(wěn)誤差和步進精度誤差所造成的曝光劑量誤差，并且做了相關(guān)仿真，結(jié)果顯示均勻性提升了1.5個百分點。
　　

2、 以ITO玻璃為實驗基板，以現(xiàn)有的曝光機為實驗平臺進行曝光實驗，而后進行其他相關(guān)光刻步驟，配組最佳的實驗參數(shù)。同時利用ZEMAX和MATLAB軟件，結(jié)合曝光機的投影物鏡的光學參數(shù)，分析光學顯微鏡下的10μm、15μm和20μm線寬的顯影圖效果。
　　 針對性地優(yōu)化設計了一個曝光機中的重要核心部件即投影物鏡。選取了一個美國光刻物鏡專利為雛形，優(yōu)化設計了一個用于平板電腦光刻的投影物鏡。運用光學模擬軟件ZEMAX從光程差、調(diào)制傳遞函