光刻機掩模微動臺耦合誤差分析及控制器設(shè)計.pdf

1、光刻機的制造建立在一個國家強大的科技實力和工業(yè)基礎(chǔ)之上。光刻機的研發(fā)需要多個學(xué)科的交叉合作。掩模臺在光刻機工作中負責(zé)實現(xiàn)掩模板的精確運動。不斷提升掩模臺運動控制的精度關(guān)系到能否進一步提升光刻機的性能指標(biāo)。掩模臺采用了宏動結(jié)合微動的控制方式，而微動臺又直接體現(xiàn)著掩模臺的控制精度。為實現(xiàn)微動臺的高精度伺服運動，本文主要有以下研究內(nèi)容。
　　本文介紹了當(dāng)前國內(nèi)外光刻機、滑?？刂评碚摷凹夹g(shù)和粒子群學(xué)習(xí)算法的發(fā)展現(xiàn)狀。
　　本文隨后分

2、析了光刻機整機，掩模臺以及微動臺的工作原理，所受擾動，存在誤差以及控制系統(tǒng)的具體實現(xiàn)。
　　其次，光刻機掩模臺微動臺上裝有6個音圈電機和6個霍爾傳感器。根據(jù)電機安裝位置，完成了電機力學(xué)解耦，隨后針對控制過程中質(zhì)心與曝光中心的偏移，提出了質(zhì)心偏移的分析方法，此方法的正確性和有效性得到了仿真實驗的驗證，在測量元件實際安裝幾何尺寸的基礎(chǔ)上，完成了測量耦合模型的建立。
　　再次，針對掩模臺抗擾動的工作要求，設(shè)計了基于指數(shù)趨近率的滑模