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1、集成電路的密集程度和性能指標(biāo)按摩爾定律(Moor's Law)成幾何級(jí)數(shù)快速增長，它強(qiáng)力推動(dòng)著整個(gè)IT行業(yè)的高速發(fā)展。光刻技術(shù)在集成電路中有著舉足輕重的作用，是集成電路工業(yè)的“頂梁柱”，是近代信息技術(shù)中的一項(xiàng)關(guān)鍵技術(shù)。光刻技術(shù)中有三大核心技術(shù)，其中掩模-硅片對(duì)準(zhǔn)是光刻機(jī)的三大核心技術(shù)(物鏡、對(duì)準(zhǔn)、工件臺(tái))之一，隨著光刻機(jī)技術(shù)水平的提高，特征線寬的尺寸減小到納米級(jí)時(shí)，對(duì)光刻機(jī)對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)提出了更高對(duì)準(zhǔn)精度的性能指標(biāo)。本論文就目前光刻機(jī)需要高精
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