光學(xué)衍射成像中對比度的研究.pdf

1、基于光的衍射光學(xué)成像理論發(fā)展起來的現(xiàn)代衍射光學(xué)技術(shù)，是微電子和光學(xué)相互交叉、滲透而形成的前沿學(xué)科。衍射光學(xué)元件具有體積小、重量輕、易復(fù)制等特征，在諸多領(lǐng)域中如光纖通訊、微光機(jī)電系統(tǒng)及國防等有著廣闊的應(yīng)用前景。
　　本文研究了在可見光范圍內(nèi)，基于光學(xué)衍射成像的標(biāo)量衍射理論，對衍射光學(xué)元件圖像質(zhì)量的對比度進(jìn)行分析。針對入射光透過衍射光學(xué)元件的遠(yuǎn)場衍射成像距離，以及入射光以不同形態(tài)入射到衍射光學(xué)元件時(shí)所形成的圖像質(zhì)量對比度展開了深入的研

2、究。
　　所研究的主要內(nèi)容如下：(1)根據(jù)標(biāo)量衍射理論，對衍射光學(xué)元件的算法設(shè)計(jì)所需要的基礎(chǔ)理論以及利用計(jì)算機(jī)進(jìn)行輔助設(shè)計(jì)的方法進(jìn)行了對比分析；(2)在標(biāo)量衍射理論菲涅耳近似下，利用計(jì)算機(jī)對相位全息圖進(jìn)行G.S迭代計(jì)算，對單點(diǎn)距離和多點(diǎn)距離衍射成像圖像質(zhì)量的相位分布對比度進(jìn)行分析；(3)研究了入射光為高斯光束時(shí)，對基于平面波入射的衍射光學(xué)元件，光束半徑變化對衍射成像質(zhì)量的研究，對基于入射光為高斯光束的實(shí)現(xiàn)衍射成像的相息圖進(jìn)行了計(jì)算