新型MOSFET器件結(jié)構(gòu)設(shè)計、建模及特性模擬.pdf

1、幾十年來器件尺寸遵循著等比例縮小定律持續(xù)減小，隨著MOSFET器件特征尺寸進入亞100nm至納米級，器件的很多技術(shù)指標已經(jīng)接近其物理極限。隨著器件溝道長度的不斷減小，源漏極耗盡區(qū)占整個溝道的比重越來越大，溝道區(qū)的二維電勢分布和強電場使器件性能嚴重偏離長溝道器件性能，溝道內(nèi)的導(dǎo)電電荷越來越少，使得閾值電壓減小，進而失去控制，這就是短溝道效應(yīng)。當溝道長度減小，漏極所加電壓增加時，由于溝道很短，源極也受到漏極電場的影響，在此電場的影響下，源端

2、勢壘降低，從源區(qū)注入到溝道內(nèi)的自由電子增加，進而導(dǎo)致漏源電流增加，稱為漏感應(yīng)勢壘降低效應(yīng)，對于一定的源漏電壓，器件尺寸越小，漏極電流增加的越顯著，最終導(dǎo)致器件不能關(guān)斷，以致器件無法正常工作。當溝道長度減小到一定的程度，器件內(nèi)的電場強度很強，特別是源漏結(jié)附近，從而使載流子獲得很高的能量，隨即成為熱載流子，熱載流子在兩個方面影響器件性能:首先熱載流子穿過Si-SiO2勢壘，注入到氧化層中，隨著電子的不斷積累，閾值電壓改變，器件壽命縮短;其次

3、熱載流子在漏極附近的耗盡區(qū)中與晶格碰撞產(chǎn)生電子空穴對，對NMOS管，碰撞產(chǎn)生的電子形成附加的泄漏電流，空穴則被襯底收集，形成襯底電流。根據(jù)等比例縮小定律，柵氧化層厚度隨著MOSFET尺寸縮小而越來越薄，主流的半導(dǎo)體制程甚至已經(jīng)做出了1.2納米厚度的柵氧化層，該厚度僅僅與5個原子疊加在一起的厚度相當。在這種尺寸下，有些電子有機會越過柵氧化層而產(chǎn)生柵極泄漏電流，這就是電子的隧穿效應(yīng)。以上問題的解決需要從器件的工藝、材料和結(jié)構(gòu)等方面加以考慮。

4、本文主要工作包括:
　　(1) MOSFET器件研究概述與器件建模理論基礎(chǔ)。第1章介紹了集成電路發(fā)展概況、面臨的問題以及未來發(fā)展的趨勢。并基于此，提出了本文的研究意義與研究內(nèi)容。第2章介紹了器件解析模型建模理論基礎(chǔ)，總結(jié)歸納了三種表面勢建模方法。
　　(2)異質(zhì)柵MOSFET的柵極由兩種不同功函數(shù)的材料組成，因而在溝道內(nèi)產(chǎn)生了階梯電勢，在兩種材料的交接處附近增加了一個峰值電場，同時漏端峰值電場比同質(zhì)柵MOSFET有所降低，交

5、接處的峰值電場提高了溝道內(nèi)載流子的輸運效率，同時降低了器件的熱載流子效應(yīng)。此外，由于該器件近源極區(qū)域?qū)β╇妷旱淖兓哂衅帘巫饔?，從而有效地抑制了器件的溝道長度調(diào)制效應(yīng)。受異質(zhì)柵結(jié)構(gòu)的啟發(fā)，本文第3章提出了單材料雙功函數(shù)柵MOSFET，近源端采用P型摻雜，近漏端采用N型摻雜，因為P型摻雜功函數(shù)高于N型摻雜功函數(shù)。運用拋物線法為該器件建立了電勢解析模型，并用MEDICI對該模型進行了驗證，結(jié)果表明解析模型與MEDICI仿真曲線吻合較好。最后

6、對器件的各種性能進行了仿真分析。
　　(3)輕摻雜漏MOSFET是在溝道中靠近源漏極附近設(shè)置一個低摻雜區(qū)域，該區(qū)域可以承受部分電壓，削弱漏區(qū)電場，防止熱電子退化效應(yīng)。在第3章基礎(chǔ)上，本文第4章提出了單材料雙功函數(shù)柵輕摻雜漏MOSFET。首先通過工藝模擬軟件TSUPREM，模擬了SMDWG LDD MOSFET柵極制造工藝。其次運用拋物線法，建立了該器件的表面勢解析模型，并用MEDICI進行了仿真驗證，結(jié)果表明解析模型與MEDICI

7、仿真較吻合。最后對器件的各種性能進行了仿真分析。
　　(4)根據(jù)2013年國際半導(dǎo)體技術(shù)發(fā)展路線圖，到2017年主流工藝器件的物理柵長將降至15納米以下，對應(yīng)的等效氧化層厚度將降到0.6納米以下，如仍然采用二氧化硅作為柵介質(zhì)，電子的遂穿效應(yīng)將非常嚴重，采用高k介質(zhì)材料取代傳統(tǒng)的二氧化硅，已經(jīng)成為克服該問題的有效方法之一，但是因為高k介質(zhì)和硅基之間往往存在界面層，影響器件的穩(wěn)定性，基于此，本文第5章提出了堆疊柵介質(zhì)異質(zhì)柵全耗盡SOI