06_硅片表面檢驗分析

1、硅片表面檢驗分析硅片表面檢驗分析硅片在聚光燈下目檢，要求圓片表面無明顯色差、花紋、霧狀斑塊或色斑；圓片無裂紋，邊緣缺損、無沾污；圓片表面無劃痕。1.無明顯色差氧化層變化容易產(chǎn)生色差，如圖示。氧化層100A的厚度變化就會在目檢時看到顏色的變化，大約厚度變化2000A，顏色就會呈現(xiàn)一個周期性的變化。氧化層幾十A的厚度變化就會使表面產(chǎn)生一點顏色變化，顏色變化嚴重時，硅片表面會有明顯的花紋。一般來說，隨著氧化層厚度的增加，顏色變化的明顯性會下降

2、，幾萬A后顏色隨厚度的變化就不再明顯。總厚度為一萬多A后，二三百A的厚度變化已經(jīng)看不出明顯的顏色變化。加工工藝對色差的影響1.1氧化如果表面有1％以上的變化時會看出顏色變化。氧化時應(yīng)表面一致，顏色一致。1.2CVD表面變化4％以上時，色差較明顯。APCVD一般達不到無色差的要求，PECVD、LPCVD可以做到無色差。如果色差變化比較均勻時還可以，色差有突變時必須改進。噴頭一般對色差沒有影響，而表面態(tài)的影響比較大，如放射狀色斑、沾污、粉塵

3、等。表面水分含量較高時，會對表面產(chǎn)生影響，氧化層較薄時，會產(chǎn)生色差。如圖示：解決：甩干時控制表面，禁止再落水，甩干后及時取出。腐蝕后硅片表面疏水，水會沿劃片槽下流，如未能甩干，會形成一條白帶，擴散后片子就報廢了，如圖示。解決：等水靜止后取出片架，稍傾斜，慢速；有水跡可沖水或者擦片。片架潮濕也易產(chǎn)生花紋。CVD會復(fù)制上道工序帶來的損傷，為了防止復(fù)制，可以在CVD前用HF漂洗。CVD設(shè)備故障也會造成色差，如果噴嘴噴的過多，或者噴頭氣流變化，

4、會造成硅片表面有深淺條花紋。如圖示。1.3腐蝕有些缺陷擴散后看不出來，但腐蝕后就會發(fā)現(xiàn)色差。如果沒有腐蝕干凈，或者腐蝕不均勻，出現(xiàn)臺階變化，也會產(chǎn)生色差。如圖示如果去膠不干凈，色差太明顯，會形成花紋，如圖示2.物狀斑塊、白霧如圖示。這類缺陷一般對硅片影響較大。隔離槽有白霧，如圖示滲磷區(qū)有白霧，如果已生長在硅片里面，會發(fā)藍，發(fā)綠。氧化層表面，硅表面白霧，有一定的高度，透明，一般不易去除，已經(jīng)生成了酸性化合物，可用雙氧水煮去。如圖示有機沾污