微弧氧化工藝在復(fù)雜鋁合金工件上的應(yīng)用研究.pdf

1、微弧氧化是一種在閥金屬表面原位生長(zhǎng)陶瓷膜的新技術(shù).該文在分析大量文獻(xiàn)的基礎(chǔ)上,對(duì)微弧氧化技術(shù)的發(fā)展概況及應(yīng)用領(lǐng)域進(jìn)行了概括,同時(shí)還對(duì)微弧氧化陶瓷膜層的性能、成膜機(jī)理及相關(guān)理論進(jìn)行了綜述.在微弧氧化工藝參數(shù)研究部分,重點(diǎn)考察了初始電壓、電流密度及氧化時(shí)間對(duì)膜層生長(zhǎng)的影響.并通過對(duì)膜層生長(zhǎng)規(guī)律的研究及膜層厚度、硬度的測(cè)試,確定最佳的微弧氧化工藝條件.實(shí)驗(yàn)研究表明,控制適當(dāng)?shù)某跏茧妷?電流密度為50A/dm<'2>,氧化時(shí)間為60min的條件

2、下,對(duì)LY12鋁合金進(jìn)行微弧氧化處理,能在鋁合金表面生成具有一定厚度、硬度較高的陶瓷膜層.復(fù)雜工件研究以具有復(fù)雜外表面的齒圈狀工件和具有內(nèi)表面的圓筒狀工件為對(duì)象,重點(diǎn)考察了影響微弧氧化在復(fù)雜工件表面上成膜均勻性的因素,最終通過合理控制工藝參數(shù)、適當(dāng)?shù)胤胖藐枠O及加入輔助陰極的方法,在復(fù)雜工件上生成性能良好、表面均勻的陶瓷膜層.通過對(duì)膜層的表面形貌的掃描電鏡分析,指出在不同初始電壓下,膜層形貌的差異,并結(jié)合微弧氧化機(jī)理加以分析.通過對(duì)膜層的