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文檔簡介
1、該論文發(fā)展了分?jǐn)?shù)維空間方法,并把它用于半導(dǎo)體帶間躍遷光譜的分析上.具體地,我們運(yùn)用分?jǐn)?shù)維空間方法研究了(1)硅的臨界點(diǎn)躍遷隨溫度變化規(guī)律;(2)表面氧化層對(duì)從光譜中分析臨界點(diǎn)躍遷的影響;(3)體硅鍺合金材料的臨界點(diǎn)躍遷隨合金成分變化規(guī)律.我們的工作表明,與傳統(tǒng)分析方法相比,分?jǐn)?shù)維空間方法具有以下優(yōu)點(diǎn):(1),由于引入了維度可以是分?jǐn)?shù)的概念,可以得心應(yīng)手地處理維度連續(xù)變化(渡越)的情形,適用于無論是整數(shù)還是中間維度的情形;(2)分?jǐn)?shù)維空間
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