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文檔簡介
1、如今在設計到市場時間(TTM)日益縮短的芯片競爭格局中,傳統(tǒng)的基于管級(transistor-level)全定制(full custom)ASIC芯片已經遠遠滿足不了需求,基于門級(gate-level)的半定制設計則全面形成主流,而后端設計作為半定制設計的重要革新環(huán)節(jié),逐漸成為各大公司重點研究的課題。
在深亞微米的后端設計領域,所面臨的諸多問題和挑戰(zhàn)越來越嚴重:
隨著規(guī)模增加,直接帶來的結果就是運行時間(run-t
2、ime)的急劇膨脹,極大地影響了設計流程的迭代效率。
隨著線寬的縮小,互聯(lián)線的噪聲干擾已不單純影響部分信號的傳輸質量,而是影響到芯片的整體工作速度甚至功能的正確與否。
隨著電壓降低,所帶來的電壓降(IR-Drop)問題將嚴重影響芯片的工作性能。
線寬減小的作用下,可制造設計(DFM)也直接影響著芯片的成品率。
本文研究一款規(guī)模為120萬門,速度工作在100MHz,工藝節(jié)點基于臺積電0.18um的A
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