磁控濺射ZnO薄膜的制備及其光學(xué)性質(zhì)的研究.pdf_第1頁
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文檔簡介

1、ZnO薄膜的制備和性能的研究,是一項(xiàng)國際前沿課題,它在光通訊,光存儲,信息處理,光計(jì)算機(jī),激光打印,全色顯示等領(lǐng)域具有重要的應(yīng)用價值.為了制備均勻的、高密度和低密度的ZnO光子點(diǎn),我們探索了用陽極氧化法在絕緣石英襯底上制備氧化鋁光子點(diǎn).研究了氧化鋁光子點(diǎn)的結(jié)構(gòu)及其常溫光致發(fā)光特性;并根據(jù)其相對強(qiáng)度和發(fā)射峰位置隨氧化電壓的變化關(guān)系,分析其強(qiáng)烈的紫外發(fā)射來源于與α-A12O3的F心,F+心相類似的氧缺陷.利用射頻磁控濺射法在石英襯底上濺射一

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