磁控濺射法制備ZnO薄膜及其特性研究.pdf

1、本文采用直流反應(yīng)磁控濺射的方法，通過改變?yōu)R射功率、改變工作壓強、改變襯底溫度以及退火處理等方法，在玻璃襯底上制備了ZnO薄膜，襯底上預(yù)先鍍有透明的ITO導(dǎo)電薄膜，因此制備的樣品可以直接作為陽極熒光屏用于場發(fā)射平板顯示器。通過X射線衍射法(XRD)、掃描電鏡(SEM)及原子力顯微鏡(AFM)對樣品的結(jié)構(gòu)、形貌特性進(jìn)行了測試，利用場發(fā)射、熒光光譜儀對樣品的陰極射線發(fā)光特性和光致發(fā)光進(jìn)行了測試和分析。研究了ZnO薄膜的結(jié)晶狀況、成分、點缺陷濃

2、度等因素與其發(fā)光特性之間的關(guān)系，找到制備較好薄膜的實驗條件。實驗表明，在濺射功率為150w、工作壓強為4Pa、沉底溫度為250度及進(jìn)行退火處理得條件下，生成的薄膜顆粒比較大、比較致密、平整度較好，即容易生成結(jié)晶質(zhì)量比較好的薄膜，而高的結(jié)晶質(zhì)量和一致的C軸取向性觀察到有好的紫外光及藍(lán)綠光發(fā)射，薄膜對光的透過率測試表明所生成的氧化鋅薄膜透過率一般在80％以上，是比較好的透明薄膜。同時，在上述較好的試驗條件下，分別以N2、NH3作為摻雜劑，對