新型還原劑制備石墨烯.pdf

1、利用現(xiàn)有還原劑制備石墨烯,往往會(huì)出現(xiàn)雜質(zhì)缺陷較多和產(chǎn)物容易團(tuán)聚等缺點(diǎn),從而會(huì)影響石墨烯應(yīng)用性能。本論文為了解決上述問(wèn)題,提出了兩種新型的還原劑—二氧化硫脲堿液和碳酰肼堿液,并分別利用這兩種新型還原劑和水合肼制備石墨烯,且比較了不同還原劑的還原效果。通過(guò)SEM圖像發(fā)現(xiàn),新型還原劑制備的石墨烯微片分散良好,沒(méi)有團(tuán)聚。通過(guò)XRD分析發(fā)現(xiàn),經(jīng)過(guò)三種還原劑處理后,氧化石墨的特征峰都消失,且都出現(xiàn)了石墨烯的特征峰,說(shuō)明三種還原劑都有一定的還原效果;

2、但是新型還原劑制備的石墨烯相對(duì)水合肼制備的石墨烯特征峰位置偏右,強(qiáng)度更高,說(shuō)明前者碳原子層間距更大,結(jié)晶程度更高,還原效果更優(yōu)。通過(guò)Raman光譜分析發(fā)現(xiàn),新型還原劑制備的石墨烯相對(duì)水合肼制備的石墨烯 ID\IG小的多,也即雜質(zhì)缺陷更少,說(shuō)明前者還原效果更優(yōu)。新型還原劑制備的石墨烯的導(dǎo)電性能也更強(qiáng)。
　　根據(jù)實(shí)驗(yàn)現(xiàn)象及各項(xiàng)表征結(jié)果,本論文還對(duì)新型還原劑制備石墨烯的機(jī)理進(jìn)行了探討,并提出了可能的還原機(jī)理。
　　最后,將新型還原