脈沖電沉積秘及相關(guān)機理研究.pdf

1、本論文著重于添加劑對脈沖電沉積鉍鍍液、鍍層質(zhì)量及其相關(guān)機理的影響研究。采用正交實驗設(shè)計方法優(yōu)化了添加劑組成，確定了復(fù)合添加劑的配方為：酒石酸銻鉀0.4g/L，氨基三亞甲基磷酸0.2g/L，十二烷基硫酸鈉0.2g/L。結(jié)果表明，復(fù)合添加劑的加入能夠有效提高鍍液的分散能力和覆蓋能力，通過對鍍層的SEM、AFM、XRD和EDS等性能檢測表明，在加入復(fù)合添加劑條件下得到的鍍層表明光滑平整，結(jié)晶細致且純度很高，鍍層擇優(yōu)取向為沿(012)晶面生長的

2、斜方六面體結(jié)構(gòu)，鍍層中元素含量為：Bi97.06 Wt％，C2.94 Wt％。
　　 通過對鍍液中有無添加劑時做陰極極化曲線、循環(huán)伏安和計時電流等電化學(xué)性能檢測，探討了鉍的電沉積行為機理及其相關(guān)動力學(xué)參數(shù)，結(jié)果表明：電沉積過程中鉍離子經(jīng)歷的是半球形擴散控制下的三維瞬時成核過程，復(fù)合添加劑對鉍離子起到了抑制劑和極化劑的作用，使得鉍離子的成核速率常數(shù)、成核數(shù)密度得到升高，交換電流密度和電極反應(yīng)速率常數(shù)得到降低，有利于鍍層結(jié)晶更為細致