超像素調(diào)制數(shù)字光刻分辨率增強技術(shù)研究.pdf

1、無掩模數(shù)字光刻技術(shù)的發(fā)展，給光刻領(lǐng)域帶來了極大的創(chuàng)新。它的技術(shù)原理是在DMD微鏡上顯示數(shù)字掩模圖形，可以有效的避免掩模版制作昂貴的問題。但是數(shù)字光刻技術(shù)在制作微光學器件的過程中，會出現(xiàn)制作結(jié)構(gòu)不工整，邊緣不光滑，光刻分辨率低下等問題。鑒于以上原因，依據(jù) DMD數(shù)字光刻技術(shù)的原理特性，本論文提出了超像素調(diào)制光刻技術(shù)，主要研究了軸向超像素調(diào)制和多像素移動調(diào)制兩種方法，目的在于提高數(shù)字光刻分辨率，改善數(shù)字光刻成像質(zhì)量。
　　1.軸向超像

2、素調(diào)制光刻方法，是基于圖形像素的細分，通過 DMD單個微鏡在基底形成子像素，然后沿軸向移動疊加子像素，即形成超像素陣列，從而提高光刻分辨率。具體技術(shù)思路是將 DMD上的掩模信息通過精縮物鏡投影到位于基底的光刻膠上，該基底是由步長較小的步進電機驅(qū)動，DMD的掩模圖像是由計算機靈活控制，從而實現(xiàn)以軸向超像素的移動方式進行曝光調(diào)制。本論文首先介紹了該方法的技術(shù)原理，并進行了原理仿真。再根據(jù)其技術(shù)特點，搭建了軸向超像素調(diào)制光刻系統(tǒng)，最后開展了大

3、量驗證性實驗，證明了軸向超像素調(diào)制光刻方法改善數(shù)字光刻成像質(zhì)量的可行性。
　　2.多像素移動調(diào)制光刻方法，是將灰階圖像通過精縮物鏡成像在涂敷了光刻膠的基底上，而基底與DMD平面成一定角度，通過移動二維工件臺，并自由切換DMD上的顯示圖像，在基底上以多像素移動的方法進行曝光調(diào)制，目的是得到更小光刻分辨率的微結(jié)構(gòu)。這種方法是利用圖形多像素的細分原理，通過單個微鏡在基底形成相同大小的子像素，然后移動疊加子像素形成多像素整列，從而改善成像