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文檔簡介
1、鈣鈦礦相鐵電薄膜具有優(yōu)異的鐵電、介電、介電可調(diào)和光學等性能,在隨機存儲器、介電元器件、可調(diào)器件和光學元器件中具有廣泛的應用市場和前景。本文以典型的A位和B位摻雜PbTiO3(PT)的(Pb,Sr)TiO3(PST)和Pb(Zr,Ti)O3(PZT)薄膜為研究對象,通過分析摻雜、取向和形成滲流型結(jié)構(gòu)等手段對薄膜形成和性能的影響,探索薄膜性能改善的機理。
本研究主要內(nèi)容包括:⑴通過溶膠凝膠法制備Mg摻雜的Pb0.35Sr0.65T
2、iO3薄膜,將 Mg離子引入PST薄膜中進行B位摻雜取代Ti形成缺陷,通過使得Ti4+變價為Ti3+形成缺陷,有效地降低了薄膜內(nèi)氧空位的含量,同時,薄膜體系中的缺陷還可以與氧空位形成~缺陷偶極子對,對氧空位的自由遷移形成有效的束縛,大大降低了氧空位的遷移能力,從而降低了薄膜的介電損耗。當Mg摻雜含量為6mol%時, PST薄膜的介電損耗與純PST薄膜相比降低了30%。⑵利用溶膠凝膠法制備Ag摻雜的PbZr0.52Ti0.48O3薄膜,通
3、過引入過量的銀離子,其中一部分摻雜進入 PZT晶格從而降低由于鉛揮發(fā)形成的缺陷,提高了薄膜的結(jié)晶性能。利用銀鉛二元共晶體系的特性,控制另一部分銀離子與鉛離子在熱處理前期形成了Ag-Pb合金亞穩(wěn)過渡相,并在隨后的熱處理過程逐漸分解形成了納米銀顆粒,解決了 PZT薄膜結(jié)晶能力弱而難以在其中形成納米銀的問題,并形成了摻雜 Ag/PZT薄膜的滲流結(jié)構(gòu)體系,薄膜的介電常數(shù)有了顯著的提高,滲流型Ag/PZT薄膜的介電常數(shù)比純PZT的介電常數(shù)高出23
4、0%。同時,薄膜中納米銀增強了薄膜內(nèi)部電場,降低了薄膜高介電可調(diào)性和鐵電性所需的調(diào)制電壓。在獲得相同性能的情況下,滲流型Ag/PZT薄膜的的介電可調(diào)調(diào)制電壓和矯頑場比純PZT薄膜的分別低45%和29%。⑶在取向PT的基板上制備取向PZT的過程中,在體系中引入銀離子,由于在取向PT上誘導取向PZT形成時,PZT的結(jié)晶能低,能迅速結(jié)晶形成致密的基體,對Ag的擴散形成強的阻礙作用,降低了Ag的擴散速率,從而在取向PZT中形成了納米銀顆粒,在取
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