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文檔簡介
1、隨著半導(dǎo)體工業(yè)技術(shù)的空前發(fā)展,超大規(guī)模集成(Very Large Scale Integrated,VLSI)電路的性能也得以空前的提高,但隨著半導(dǎo)體工藝的特征尺寸縮小至深亞微米量級,工藝技術(shù)幾乎達(dá)到了物理極限。另一方面,由數(shù)量巨大的互連線所帶來的傳輸延時與干擾噪聲效應(yīng)越來越嚴(yán)重,并取代門延時成為決定電路性能的關(guān)鍵因素?;诠柰?Through-Silicon Via,TSV)的三維集成電路(Three Dimensional Int
2、egratedCircuit,3D IC)互連技術(shù),將具有不同功能的異質(zhì)芯片垂直堆疊在一起以實(shí)現(xiàn)三維互連,能夠大幅度的降低全局互連線的長度,提高信號傳輸?shù)膸捙c速度,提高系統(tǒng)的集成度與芯片利用率,進(jìn)而使得互連延遲、各種寄生效應(yīng)以及功耗都能夠顯著的降低。三維集成電路的這些最本質(zhì)的優(yōu)點(diǎn),使得其電路性能、體積、重量等方面都遠(yuǎn)遠(yuǎn)的優(yōu)于二維平面集成電路,是未來集成電路進(jìn)一步發(fā)展以及實(shí)現(xiàn)片上系統(tǒng)(System onChip,SoC)的重要趨勢和方案
3、,也是業(yè)界所公認(rèn)的能夠使摩爾定律持續(xù)有效的新技術(shù)。因此,3D IC與TSV的設(shè)計就變得尤為重要,為了有效低提供大規(guī)模3D IC系統(tǒng),前端的理論設(shè)計與后端的制造工藝都是必不可少的。本文從空氣隙(Air-Gap) TSV入手,重點(diǎn)分析了高速3D IC中TSV的寄生效應(yīng)以及等效電路;并在Air-Gap TSV的基礎(chǔ)之上,提出了空氣腔(Air-Cavity) TSV結(jié)構(gòu),并分析了高溫與高頻工作條件對這些新材料與新結(jié)構(gòu)的TSV所帶來的影響。本文的
4、主要研究成果如下:
本文采用空氣隙作為TSV銅導(dǎo)體的絕緣介質(zhì)層,深入研究了GSG(Ground-Signal-Ground)模式Air-Gap TSV結(jié)構(gòu)的寄生電容效應(yīng)。與Si02介質(zhì)層相比,Air-Gap介質(zhì)層一方面能夠顯著降低TSV的寄生電容;另一方面,當(dāng)Air-Gap的厚度超過0.75μm且外加偏置電壓達(dá)到平帶電壓時,TSV的寄生電容可近似為Air-Gap介質(zhì)層的寄生電容,而無需再計算閾值電壓以及耗盡層電容。Air-Ga
5、p TSV寄生電容提取過程的簡化,也正是得益于空氣隙的低介電常數(shù)。本文采用部分電感解析方法,提出了GSG模式錐型TSV結(jié)構(gòu)的高頻寄生電感解析模型,包括趨膚效應(yīng)、臨近效應(yīng)等高頻特性。當(dāng)TSV外側(cè)壁傾角為90°時寄生電感可簡化為圓柱形TSV的寄生電感,具有更好的適用性,所提出的數(shù)值模型與HFSS仿真驗(yàn)證以及測試結(jié)果都有較好的一致性?;谏鲜黾纳?yīng)的研究,綜合TSV其他部分的寄生參數(shù),如硅襯底的寄生效應(yīng)與TSV銅導(dǎo)體的寄生電阻等,提出了用于
6、連接高速電路中共面波導(dǎo)(CoplanarWaveguides,CPW)的GSG模式TSV的等效電路以及π型集總模型。根據(jù)不同空氣隙的厚度,提出了兩種等效電路模型,使得本文所提出的模型具有更好的適用性。采用3D電磁寄生參數(shù)提取工具Ansys's HFSS軟件、ADS軟件以及Matlab軟件驗(yàn)證了模型的精確性。
本文基于對Air-Gap TSV各寄生效應(yīng)的深入研究,提出了一種新型的TSV結(jié)構(gòu),即Air-Cavity TSV。該TS
7、V結(jié)構(gòu)是通過刻蝕掉TSV周圍的硅襯底來降低高頻電路中硅襯底的渦流損耗。通過對空氣腔TSV傳輸結(jié)構(gòu)的品質(zhì)因數(shù)及S參數(shù)研究,可以發(fā)現(xiàn)該空氣腔TSV結(jié)構(gòu)在低阻硅襯底上,就能夠?qū)崿F(xiàn)較為理想的品質(zhì)因數(shù)與S參數(shù)。本文基于品質(zhì)因數(shù)與S參數(shù)的研究,討論了最佳的空氣腔物理尺寸,即不僅能夠提供最佳的信號傳輸質(zhì)量,亦能得到較高的互連結(jié)構(gòu)穩(wěn)定性。進(jìn)一步提出了GSG模式空氣腔TSV的等效電路與π型集總電路模型,并采用3D電磁寄生參數(shù)提取工具Ansys'sHFSS
8、軟件、ADS軟件以及Matlab軟件驗(yàn)證了模型的精確性。
由于3D IC將多層芯片堆疊在一起以及電路工作頻率的不斷提高,導(dǎo)致熱密度過高,并面臨嚴(yán)重的散熱問題,尤其是距離熱沉最遠(yuǎn)的最高層芯片,散熱性能最差。由于銅的電阻率受溫度變化的影響,因而TSV銅導(dǎo)體的寄生電阻也受到溫度變化的影響。通過引入電阻溫度系數(shù)TCR來表征TSV銅導(dǎo)體的寄生電阻隨溫度的變化規(guī)律。通過對TCR的推導(dǎo),可知TSV的半徑、工作頻率都對TCR有顯著的影響。另一
9、方面,硅襯底中的載流子遷移率亦受到溫度變化的影響,通過對其遷移率隨溫度變化的研究,推導(dǎo)其寄生電導(dǎo)隨溫度的變化規(guī)律。
隨著三維集成密度的顯著提高,不同芯片層上互連線尺寸的差異以及TSV與互連線的阻抗失配問題,會在三維信號通道中引入較多的信號反射,該問題在高頻電路中尤為顯著?;诓煌墓ぷ黝l段,提出了不同的阻抗匹配方案。當(dāng)工作頻率為5 GHz時,在三維信號通道中加入匹配集總電容,構(gòu)成LC匹配網(wǎng)絡(luò),以實(shí)現(xiàn)互連線與TSV之間的阻抗匹配
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