已閱讀1頁,還剩67頁未讀, 繼續(xù)免費閱讀
版權(quán)說明:本文檔由用戶提供并上傳,收益歸屬內(nèi)容提供方,若內(nèi)容存在侵權(quán),請進行舉報或認領(lǐng)
文檔簡介
1、集成電路的密集程度和性能指標(biāo)按摩爾定律(Moor's Law)成幾何級數(shù)快速增長,它強力推動著整個IT行業(yè)的高速發(fā)展。光刻技術(shù)在集成電路中有著舉足輕重的作用,是集成電路工業(yè)的“頂梁柱”,是近代信息技術(shù)中的一項關(guān)鍵技術(shù)。光刻技術(shù)中有三大核心技術(shù),其中掩模-硅片對準(zhǔn)是光刻機的三大核心技術(shù)(物鏡、對準(zhǔn)、工件臺)之一,隨著光刻機技術(shù)水平的提高,特征線寬的尺寸減小到納米級時,對光刻機對準(zhǔn)系統(tǒng)提出了更高對準(zhǔn)精度的性能指標(biāo)。本論文就目前光刻機需要高精
溫馨提示
- 1. 本站所有資源如無特殊說明,都需要本地電腦安裝OFFICE2007和PDF閱讀器。圖紙軟件為CAD,CAXA,PROE,UG,SolidWorks等.壓縮文件請下載最新的WinRAR軟件解壓。
- 2. 本站的文檔不包含任何第三方提供的附件圖紙等,如果需要附件,請聯(lián)系上傳者。文件的所有權(quán)益歸上傳用戶所有。
- 3. 本站RAR壓縮包中若帶圖紙,網(wǎng)頁內(nèi)容里面會有圖紙預(yù)覽,若沒有圖紙預(yù)覽就沒有圖紙。
- 4. 未經(jīng)權(quán)益所有人同意不得將文件中的內(nèi)容挪作商業(yè)或盈利用途。
- 5. 眾賞文庫僅提供信息存儲空間,僅對用戶上傳內(nèi)容的表現(xiàn)方式做保護處理,對用戶上傳分享的文檔內(nèi)容本身不做任何修改或編輯,并不能對任何下載內(nèi)容負責(zé)。
- 6. 下載文件中如有侵權(quán)或不適當(dāng)內(nèi)容,請與我們聯(lián)系,我們立即糾正。
- 7. 本站不保證下載資源的準(zhǔn)確性、安全性和完整性, 同時也不承擔(dān)用戶因使用這些下載資源對自己和他人造成任何形式的傷害或損失。
最新文檔
- 光刻機硅片對準(zhǔn)軟件系統(tǒng)設(shè)計與實現(xiàn).pdf
- 基于機器視覺的光刻機自動對準(zhǔn)系統(tǒng).pdf
- 光刻機微動測量系統(tǒng)數(shù)據(jù)處理方法研究.pdf
- 光刻機換臺過程控制算法研究.pdf
- 基于PVDF的光刻機流場壓力檢測方法的研究.pdf
- S公司光刻機項目商業(yè)計劃.pdf
- 浸沒式光刻機浸液溫度控制算法研究.pdf
- 帶型納米壓印光刻機的研究與開發(fā).pdf
- 基于成像光強的光刻機像差原位檢測理論與方法研究.pdf
- 復(fù)合驅(qū)動光刻機掩模臺的運動控制研究.pdf
- 光刻機粗精耦合及同步控制算法研究.pdf
- 激光投影光刻機光學(xué)對位技術(shù)研究.pdf
- 光刻機雙驅(qū)動微動臺動態(tài)特性仿真研究.pdf
- 光刻機雙驅(qū)動微動臺溫度場研究.pdf
- 光刻機結(jié)構(gòu)動力學(xué)建模與仿真.pdf
- 光刻機雙工件臺系統(tǒng)上位機軟件設(shè)計.pdf
- 光刻機雙工件臺軌跡規(guī)劃算法研究.pdf
- 光刻機雙工件臺系統(tǒng)的FMECA分析.pdf
- 雙面光刻機控制系統(tǒng)的研究與設(shè)計.pdf
- 光刻機掩模臺運動控制器設(shè)計.pdf
評論
0/150
提交評論