薄膜光學(xué)常數(shù)和厚度的透射光譜法測(cè)定研究.pdf

1、隨著薄膜在諸多技術(shù)領(lǐng)域中日益廣泛應(yīng)用，對(duì)薄膜技術(shù)的要求不斷提高，薄膜技術(shù)水平也不斷提升。在實(shí)際應(yīng)用中，準(zhǔn)確地掌握寬波段范圍內(nèi)薄膜材料的光學(xué)性能對(duì)于設(shè)計(jì)和制備高質(zhì)量光學(xué)薄膜元件至關(guān)重要。由于薄膜的光學(xué)性質(zhì)不同于相應(yīng)的塊狀材料，且薄膜的光學(xué)常數(shù)與薄膜的沉積方法、沉積條件以及沉積參數(shù)等均有很大關(guān)系，因此，如何根據(jù)實(shí)際工作條件快速而精確地測(cè)定薄膜的光學(xué)常數(shù)一直是薄膜工作者非常關(guān)注的課題。在目前眾多的方法中，透射光譜法因其具有測(cè)試簡(jiǎn)單、操作方便、

2、測(cè)試范圍廣及精度高等突出優(yōu)點(diǎn)而備受人們青睞。 本論文主要對(duì)透射光譜法測(cè)量薄膜光學(xué)常數(shù)進(jìn)行了較為系統(tǒng)、詳細(xì)的研究，給出了一種用透射光譜法同時(shí)確定薄膜光學(xué)常數(shù)和厚度的方法，并開(kāi)展了實(shí)驗(yàn)研究，取得了滿(mǎn)意的結(jié)果。論文的主要工作包括： 1．給出了確定透明均勻薄膜光學(xué)常數(shù)和厚度的方法。利用透射光譜法確定薄膜 的光學(xué)常數(shù)(薄膜厚度和折射率)，對(duì)鍍制在CaF2基底上的單層ZnS薄膜以 及鍍制在Al<,2>O<,3>基底上的單層YbF

3、<,3>薄膜的光學(xué)常數(shù)進(jìn)行了優(yōu)化計(jì)算，給出 了優(yōu)化結(jié)果，并作了分析討論。 2．建立了確定吸收薄膜的光學(xué)常數(shù)和厚度的基本理論。利用透過(guò)率包絡(luò)線法確 定薄膜的光學(xué)常數(shù)(薄膜厚度、折射率和消光系數(shù))，對(duì)鍍制在ZF<,2>(高折射率玻璃)的單層YbF<,3>薄膜和HfF<,4>薄膜、鍍制在SiO<,2>的單層PbF<,2>薄膜以及 鍍制在Al<,2>O<,3>基底上的單層YbF<,3>薄膜的光學(xué)常數(shù)進(jìn)行了優(yōu)化計(jì)算，并將理 論計(jì)算