控制光學(xué)元件超光滑表面粗糙度的研究.pdf

1、本文的工作主要是針對(duì)超光滑表面加工過(guò)程中出現(xiàn)的粗糙度較大和容易出現(xiàn)劃痕的問(wèn)題，系統(tǒng)研究了拋光過(guò)程的主要參量對(duì)拋光質(zhì)量的影響規(guī)律和控制方法。由于影響拋光質(zhì)量的物理化學(xué)因素非常多，所涉及佝方面也是極其復(fù)雜的，所以實(shí)現(xiàn)高質(zhì)量的光學(xué)元件的大批量生產(chǎn)也是非常困難的。實(shí)現(xiàn)生產(chǎn)的自動(dòng)化是超光滑表面加工所追求的最終目標(biāo)。本文主要是圍繞影響拋光質(zhì)量的幾個(gè)主要參量展開(kāi)研究： 一、總結(jié)了國(guó)內(nèi)外對(duì)超光滑表面加工的技術(shù)分類(lèi)和各自優(yōu)缺點(diǎn)、發(fā)展現(xiàn)狀。根據(jù)我們

2、國(guó)家的發(fā)展現(xiàn)實(shí)，研究重點(diǎn)還是放在對(duì)傳統(tǒng)拋光技術(shù)的改進(jìn)和優(yōu)化上，并適當(dāng)?shù)匾胄碌膾伖饧夹g(shù)。 二、介紹了超光滑表面的特點(diǎn)、在ICF中的關(guān)鍵作用以及對(duì)光束傳輸質(zhì)量的影響。ICF系統(tǒng)對(duì)超光滑表面光學(xué)元件的需求量極大，對(duì)加工精度的要求近乎極限的要求，超光滑表面光學(xué)加工問(wèn)題已經(jīng)成為瓶頸問(wèn)題，急待加工水平的提高。同時(shí)介紹了對(duì)超光滑光學(xué)表面各項(xiàng)指標(biāo)進(jìn)行檢測(cè)的儀器的工作原理和優(yōu)缺點(diǎn)。 三、詳細(xì)研究拋光液的pH值對(duì)拋光質(zhì)量的影響。拋光液的p

3、H值同時(shí)影響著玻璃的水解作用、玻璃的侵蝕作用、拋光粉的團(tuán)聚作用等。所以要針對(duì)不同材料的玻璃、不同種類(lèi)的拋光粉以及不同的加工要求等因素綜合考慮拋光液pH值的最佳選擇。 四、詳細(xì)研究了拋光粉的特征對(duì)拋光質(zhì)量的影響。拋光粉的很多特征參量，如粒度及其分布、晶粒大小、形貌等都對(duì)拋光表面的質(zhì)量產(chǎn)生影響。而且這些參量會(huì)隨拋光時(shí)間變化，本文根據(jù)這些參量變化規(guī)律及其對(duì)拋光質(zhì)量的影響，把拋光過(guò)程分成拋光初期、中期的晚期三個(gè)階段，還提出選擇拋光粉的方