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文檔簡介
1、準一維納米材料,因其特殊的物理、化學性質(zhì)在納米器件、微型傳感器和光電子器件等領域具有廣泛的應用前景,已逐漸成為納米科技的研究熱點。當前國內(nèi)外對準一維納米材料的研究主要集中在兩個方面,如何通過簡單有效的方法成功制備一維納米材料,其次探索準一維納米材料的基本性能,但還都處于初步階段。
Ga2O3作為一種特殊的多功能半導體材料,在光學和磁學方面以及半導體領域都受到極大關注,其具有高禁帶寬度,介電常數(shù)小,電子漂移飽和度高,耐高溫,熱穩(wěn)
2、定性好等諸多優(yōu)良性能,因而成為新一代半導體納米材料的研究熱點。本文通過利用熱蒸發(fā)法制備一維Ga2O3納米材料。在不同反應溫度下,利用該方法對Ga單質(zhì)和Au覆蓋的Si(111)基片在通氮氣流的石英管中分別反應不同時間,制得β-Ga2O3納米材料,并通過掃描電子顯微鏡(SEM)對其形貌進行表征,利用X射線衍射儀(XRD)和能量色散譜(EDS)對其成分進行分析。利用高分辨透射電子顯微鏡(HRTEM)等對樣品進行了形貌和結(jié)構的表征。本論文的研究
3、內(nèi)容主要包括:
1.采用熱蒸發(fā)法,取適量Ga單質(zhì),以Au為催化劑,以高純度氮氣為載氣,加熱鎵源和金覆蓋的硅片,恒溫1200℃時,在恒定N2氣流的常壓環(huán)境中,分別反應30min,60min,90min和120min,生成的一維的Ga2O3納米材料的形貌存在顯著的變化,隨著反應時間的增加納米線的長度變短,徑向?qū)挾雀泳鶆?,納米片的數(shù)量變少,納米晶粒增多。說明恒溫時間對納米材料的形貌有顯著的影響。并且通過XRD,HRTEM等測試分析
4、樣品為氧化鎵。
2.采用熱蒸發(fā)法,1300℃恒溫條件下,加熱Ga單質(zhì)和濺射Au的硅片,在恒定N2氣流的環(huán)境中,分別反應30min,60min,90min和120min,生成的納米材料多為柱狀納米結(jié)構,發(fā)現(xiàn)溫度對氧化鎵形貌及結(jié)構存在顯著的影響,通過高分辨透鏡觀察到納米結(jié)構極有可能為納米纜或者核殼結(jié)構,并且通過XRD,EDS等測試分析樣品為氧化鎵。
3.在氧化鎵的整個制備過程中,開始有Au催化劑的參與,隨著反應時間的延長
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