基于紫外納米壓印技術微納結構減反材料的研究.pdf

1、微納結構具有優(yōu)越的光學減反性能，在光學器件、太陽能電池板等多個領域有廣泛應用。蛾眼納米結構作為微納結構中的一種，其具有寬波段和大視角的減反特性。本文通過紫外納米壓印技術在聚合物表面制備蛾眼納米結構，并對其成型和減反性能進行了相關的理論和實驗研究。
　　納米壓印技術作為新一代光刻技術，被廣泛用于微納結構制作。本文采用紫外納米壓印工藝結合點膠工藝，在聚合物表面制備了面積為200mm×200mm，表面平整，結構完整的蛾眼納米結構薄膜層，

2、蛾眼納米制品的反射率在波段為350-850nm，垂直入射的情況下最低平均反射率已經可以達到1％-2％之間，并且入射角度在110°以內都能達到良好的減反效果。
　　探索出了滾對平板(RTP)壓印工藝中用PDMS軟膜制備蛾眼納米結構的優(yōu)化參數，在壓力0.15Mpa，轉寫速度1mm/s，紫外膠的粘度100cps工藝條件下，成功在聚合物表面制備出蛾眼納米結構薄膜，并在AFM下觀察蛾眼納米結構復制率高表面平整，缺陷比較少。另外，提出用PDM

3、S軟膜套在滾子上，使本工藝可以實現(xiàn)連續(xù)成型，并通過以上實驗就行了初步驗證了可行性。
　　采用FDTD理論，研究了不同面型的納米結構的減反射特性，主要分析了特征參數對反射率的影響。模擬結果表明，金子塔面型、圓錐面型和拋物線面型在400nm-1000nm分別的實現(xiàn)了0.5％、0.7％、0.35％的反射率。
　　最后通過查閱文獻，對比了各個測試系統(tǒng)的優(yōu)缺點，搭建了一套符合本實驗要求的測試系統(tǒng)，對聚合物表面蛾眼納米薄膜的光學性能進行