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文檔簡(jiǎn)介
1、生產(chǎn)測(cè)井,,§3.1 渦輪流量計(jì),連續(xù)渦輪流量計(jì),全井眼渦輪流量計(jì),一、渦輪流量計(jì)工作原理,1.渦輪流量計(jì),①種類(lèi),§3.1 渦輪流量計(jì),封隔式渦輪流量計(jì),脹式渦輪流量計(jì),§3.1 渦輪流量計(jì),②結(jié)構(gòu),RPS=K(Va-Vth),1.渦輪流量計(jì)(續(xù)),渦輪結(jié)構(gòu)示意圖,機(jī)械摩阻和流體摩阻影響,§3.1 渦輪流量計(jì),二、敞流式渦輪流量計(jì)測(cè)井,1.井下刻度,連續(xù)流量計(jì)校正圖版,全井眼流量計(jì)的響應(yīng),
2、67;3.1 渦輪流量計(jì),2.儀器測(cè)量,流動(dòng)規(guī)律,3.測(cè)井資料定性分析,① 確定流體產(chǎn)出或吸入層位② 判斷流體性質(zhì)變化③ 估算各層流量比例 方法: a.曲線重疊法 b.相對(duì)流量指數(shù)法,二、敞流式渦輪流量計(jì)測(cè)井,§3.1 渦輪流量計(jì),二、敞流式渦輪流量計(jì)測(cè)井,全井眼流量計(jì)在污水回注井中 的多次測(cè)井曲線,實(shí)例,測(cè)井資料現(xiàn)場(chǎng)井下刻度圖,§3.1 渦輪流量計(jì),二、敞流式渦輪流量計(jì)測(cè)井,4.解釋與
3、應(yīng)用,全井眼流量計(jì)測(cè)量曲線,單相生產(chǎn)井中連續(xù)流量計(jì)測(cè)井曲線,§3.1 渦輪流量計(jì),二、敞流式渦輪流量計(jì)測(cè)井,5.定量解釋與應(yīng)用: 分層讀值 計(jì)算流動(dòng)響應(yīng) 確定視流速 確定平均流速 計(jì)算體積流量 確定分層流量,高靈敏度連續(xù)流量計(jì)測(cè)井刻度圖,§3.1 渦輪流量計(jì),5.定量解釋與應(yīng)用:,某井產(chǎn)出剖面解釋成果圖,多次測(cè)量解釋法步驟如下:a.求流動(dòng)響應(yīng)曲線b .確定視流速V
4、ac .速度剖面校正 V=CV*Vad .計(jì)算體積流量 Q=CP*Ve .確定分層流量f .換算到地面標(biāo)準(zhǔn)條件下流量,§3.1 渦輪流量計(jì),三、導(dǎo)流式渦輪流量計(jì)測(cè)井,封隔式綜合測(cè)試儀,脹式流量計(jì),§3.1 渦輪流量計(jì),三、導(dǎo)流式渦輪流量計(jì)測(cè)井,1.儀器測(cè)量,井的條件:穩(wěn)定流動(dòng)儀器條件:帶集流器定點(diǎn)測(cè)量:記錄3—5分鐘應(yīng)用特點(diǎn):可測(cè)較低流量可由RPS直接求流量測(cè)量流動(dòng)剖面不連續(xù),封隔式流量計(jì)解釋
5、圖版,§3.1 渦輪流量計(jì),三、導(dǎo)流式渦輪流量計(jì)測(cè)井,2.資料解釋,讀值:停抽法、平均法或面積法計(jì)算流量:查圖或公式,傘式流量計(jì)原始測(cè)井曲線,渦輪的頻率響應(yīng)與流量的實(shí)驗(yàn)關(guān)系,§3.2 放射性示蹤流量計(jì),一、放射性示蹤測(cè)井,定義:利用人工放射性同位素作示蹤劑,監(jiān)視井下流 體流動(dòng)狀態(tài)和觀察油井技術(shù)狀況的一種重要測(cè) 井方法。用途:①用于以標(biāo)記法確定井下流量和流動(dòng)剖面 ②用于診斷完井
6、問(wèn)題和評(píng)價(jià)地層處理效果 ③井間示蹤監(jiān)測(cè)井間流體流動(dòng)情況基本構(gòu)成:放射性材料、伽馬射線、探測(cè)器、電子線路測(cè)井方法:載體法、速度法,§3.2 放射性示蹤流量計(jì),二、放射性示蹤測(cè)井原理,示蹤流量計(jì)的結(jié)構(gòu)如右圖所示。示蹤流量計(jì)測(cè)井時(shí),銦同位素示蹤劑溶液由噴射器噴出。噴射器有一個(gè)體積為20㎝3的容器,每次噴射0.5㎝3,一次下井可噴射40次。噴入井筒后,啟動(dòng)一個(gè)或兩個(gè)探測(cè)器定點(diǎn)或追蹤測(cè)量,即可得到測(cè)井曲線。,
7、放射性示蹤流量計(jì),①定點(diǎn)測(cè)量: 選點(diǎn)—噴射—測(cè)量解釋: 記錄點(diǎn):兩個(gè)探頭中點(diǎn) 流速: 流量: 應(yīng)用:適用于高流速,§3.2 放射性示蹤流量計(jì),二、放射性示蹤測(cè)井原理,1.放射性示蹤流量計(jì)測(cè)井,速度法測(cè)量方式:,核流量計(jì)定點(diǎn)測(cè)井圖,§3.2 放射性示蹤流量計(jì),二、放射性示蹤測(cè)井原理,②連續(xù)測(cè)量: 恒速移動(dòng)—噴射—測(cè)量解釋: 記錄點(diǎn):兩個(gè)探頭中點(diǎn) 流速:
8、 流量: 應(yīng)用:適用于低流速,雙探頭一次追蹤示意圖,§3.2 放射性示蹤流量計(jì),二、放射性示蹤測(cè)井原理,連續(xù)測(cè)量實(shí)例:,各種時(shí)差示意圖,注水井內(nèi)核流量計(jì)連續(xù)測(cè)井圖,§3.2 放射性示蹤流量計(jì),二、放射性示蹤測(cè)井原理,跟蹤測(cè)量: 選點(diǎn)—噴射—測(cè)參考 曲線—測(cè)跟蹤曲線(單)解釋: 記錄點(diǎn):兩深度中點(diǎn) 流速: 應(yīng)用:適用中、低流速,一口生產(chǎn)井內(nèi)核流量計(jì)跟蹤測(cè)井圖,§
9、;3.2 放射性示蹤流量計(jì),二、放射性示蹤測(cè)井原理,籠統(tǒng)注水,配注管柱,§3.2 放射性示蹤流量計(jì),二、放射性示蹤測(cè)井原理,2.放射性示蹤測(cè)井(載體法),測(cè)量原理:采用“標(biāo)記法” 標(biāo)記物:放射性同位素微球探測(cè)器:伽馬探頭測(cè)量方法:測(cè)GR基線 —釋放活化懸液 —測(cè)示蹤曲線解釋方法:“面積法”應(yīng)用特點(diǎn): 假設(shè)條件往往不能成立 常受管壁沾污和大孔道影響,載體法測(cè)吸水剖面疊
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