微弧氧化中電解液MgSiF6濃度變化對鈦瓷結(jié)合強(qiáng)度的影響附20例臨床病例匯報(bào).pdf

1、分類號：R783密級：公開UDC：616.31學(xué)校代碼：11065碩士專業(yè)學(xué)位論文微弧氧化中電解液MgSiF6濃度變化對鈦瓷結(jié)合強(qiáng)度的影響附20例臨床病例匯報(bào)張紹君指導(dǎo)教師劉杰教授學(xué)位類別口腔醫(yī)學(xué)碩士專業(yè)領(lǐng)域口腔修復(fù)學(xué)答辯日期2017年5月26日I微弧氧化中電解液微弧氧化中電解液MgSiF6濃度變化對鈦瓷結(jié)合強(qiáng)度的影響濃度變化對鈦瓷結(jié)合強(qiáng)度的影響摘要摘要目的：研究微弧氧化中電解液MgSiF6濃度變化對鈦瓷結(jié)合強(qiáng)度的影響。方法：將50個切

2、削純鈦試件（規(guī)格為25mm3mm0.5mm）隨機(jī)分成五組，對照組鈦片僅行噴砂處理，其余四組鈦片經(jīng)噴砂處理后選擇MgSiF6溶液作為電解液進(jìn)行微弧氧化處理，濃度依次為10gL、20gL、30gL、40gL。從實(shí)驗(yàn)組及對照組中各隨機(jī)選擇一個鈦片進(jìn)行表面SEM及EDS分析。選定鈦片中間8mm3mm區(qū)域，將純鈦專用瓷粉中的粘結(jié)瓷、遮色瓷、體瓷依次涂布于該選定區(qū)域進(jìn)行烤瓷，瓷層總厚度為1mm?？敬珊?，從各組中隨機(jī)選擇一個鈦片，樹脂包埋后，暴露其鈦

3、瓷橫截面，利用SEM及EDS進(jìn)行觀察分析。通過三點(diǎn)彎曲試驗(yàn)對各實(shí)驗(yàn)組試件的鈦瓷結(jié)合力進(jìn)行測定，對測得的數(shù)據(jù)進(jìn)行統(tǒng)計(jì)學(xué)分析，并對瓷剝脫面進(jìn)行觀察分析。結(jié)果：微弧氧化中電解液MgSiF6濃度的變化直接影響鈦表面膜層的結(jié)構(gòu)及元素組成。掃描電鏡下，噴砂對照組的鈦片表面粗糙，形態(tài)不規(guī)整，邊緣尖銳，未見孔洞或顆粒狀結(jié)構(gòu)形成；10gLMgSiF6溶液實(shí)驗(yàn)組的鈦片表面陶瓷膜層呈多孔狀結(jié)構(gòu)，孔隙較小，直徑約為0.20.5μm；20gLMgSiF6溶液實(shí)驗(yàn)

4、組的鈦片表面膜層平整，卵圓形微孔分布廣泛且大小均勻，直徑均在12μm之間，微孔之間界限清楚，膜層結(jié)構(gòu)質(zhì)地致密無裂痕；30gLMgSiF6溶液實(shí)驗(yàn)組的鈦片表面膜層見較多顆粒狀結(jié)構(gòu)，表面微孔較少且形狀不規(guī)則；40gLMgSiF6溶液實(shí)驗(yàn)組的鈦片表面可見明顯的裂紋，無可見孔隙。三點(diǎn)彎曲試驗(yàn)：對照組鈦瓷結(jié)合強(qiáng)度為27.083.16MPa。實(shí)驗(yàn)組鈦瓷間結(jié)合力依次為38.182.65MPa、44.752.21MPa、36.442.04MPa、31.

5、042.59MPa。各實(shí)驗(yàn)組鈦瓷結(jié)合力與噴砂對照組之間均存在統(tǒng)計(jì)學(xué)差異（P0.05）；其中20gLMgSiF6溶液實(shí)驗(yàn)組的鈦瓷結(jié)合強(qiáng)度最高，與其它實(shí)驗(yàn)組之間存在統(tǒng)計(jì)學(xué)差異（P0.05）。鈦瓷結(jié)合界面SEM結(jié)果：20gLMgSiF6溶液實(shí)驗(yàn)組鈦瓷橫截面質(zhì)地致密且無明顯界限，未見孔洞及裂隙；噴砂對照組及40gLMgSiF6溶液實(shí)驗(yàn)組鈦瓷橫截面結(jié)構(gòu)疏松，可見明顯的孔洞及較大的裂隙；10gLMgSiF6溶液實(shí)驗(yàn)組及30gLMgSiF6溶液實(shí)驗(yàn)組