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1、本文采用自制微弧氧化設(shè)備,在硅酸鹽體系電解液中對(duì)AM60鎂合金進(jìn)行微弧氧化處理,研究了硅酸鹽體系電解液的衰變規(guī)律。結(jié)果表明:硅酸鹽體系是一個(gè)不穩(wěn)定的微弧氧化電解液體系;對(duì)于不同的電解液,隨其處理面積的增加,電導(dǎo)率和PH值均呈下降趨勢(shì),當(dāng)PH值達(dá)到約12.7時(shí),電解液失效;對(duì)于同一種電解液,隨著電解液處理試樣面積的增加,陶瓷層表面粗糙度增大。 通過一系列試驗(yàn)得到了鎂合金在鋁酸鈉體系及磷酸二氫鈉體系電解液中微弧氧化陶瓷層的生長(zhǎng)規(guī)律:
2、電流密度、處理時(shí)間、頻率、占空比的變化都對(duì)陶瓷層厚度及表面粗糙度產(chǎn)生影響;電源采用恒流方式控制時(shí),電壓一時(shí)間曲線上明顯分為前期的急劇上升階段和后期的平緩上升階段。 通過電能公式Q=UI△t近似計(jì)算出微弧氧化過程中的能耗。 為了在鎂合金表面形成耐蝕性良好的微弧氧化陶瓷層,本文經(jīng)過大量試驗(yàn),確定了鋁酸鈉體系及磷酸二氫鈉體系中的最佳工藝參數(shù)。利用NaCl中性鹽霧試驗(yàn)及電化學(xué)測(cè)試分析膜層耐蝕性,結(jié)果顯示:鎂合金試樣經(jīng)過微弧氧化處
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