蒙特卡羅方法模擬激光冷卻鉻原子束的三維仿真.pdf

1、實現(xiàn)納米光柵和納米點的原子光刻技術是有一定前提條件的，由于原子束的橫向發(fā)散角和通量的大小會直接影響納米沉積條紋或納米沉積點的半峰全寬和對比度，因此原子束需要在較小的速度范圍內高度平行地到達沉積所用的激光駐波場。這就需要對從原子爐中噴射出來的原子束進行多方位的有效的準直，以減小原子束的發(fā)散角，降低原子運動速度并提高原子通量。
　　為了獲得高準直度的中性鉻原子束，設計了一個由三組激光束組成的激光準直場對高溫鉻原子束進行準直。應用蒙特卡

2、羅隨機方法模擬實際狀態(tài)下原子的初始狀態(tài)，更好地體現(xiàn)了實際狀態(tài)中原子運動的不確定性以及原子同位素對實驗的影響。以原子在激光準直場中的受力情況為依據(jù)，定量分析了實際狀態(tài)中性鉻原子束在激光準直場作用下的運動特性，及其在三維空間的動軌跡和原子落點狀態(tài)的三維分布。研究顯示，經(jīng)多普勒冷卻機制冷卻后鉻原子束在x方向最大發(fā)散角減小至1.12mrad，y方向最大發(fā)散角減小至1.25mrad，再經(jīng)經(jīng)過偏振梯度冷卻后鉻原子束在x方向最大發(fā)散角減小至0.53m