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1、在基片下放置一塊永磁鐵，在濺射時，該外加磁場將對濺射空間的等離子體產(chǎn)生影響。利用這種方法，我們可以研究外加磁場對濺射粒子運動以及薄膜沉積的影響。研究中發(fā)現(xiàn)，在這種實驗裝置下，所沉積的薄膜的表面宏觀形貌呈現(xiàn)規(guī)則的幾何圖形特征：膜的中央有一圓斑，而在圓斑的外圍有規(guī)則分布的環(huán)。而且這一中央圓斑的半徑隨著靶材和基片在磁鐵上方的高度而變化。進一步，此種裝置制備的薄膜與磁控濺射制備的薄膜相比，其結(jié)晶明顯更好。在薄膜制備過程中，等離子區(qū)的輝光形貌也發(fā)
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