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文檔簡介
1、該論文研究了通過外加磁場進(jìn)行磁控濺射的方法,就是將靶內(nèi)磁場屏蔽,在基片下放置磁鐵,讓來自基片下的磁場發(fā)揮磁控作用,這樣,磁控效果不會因靶材性質(zhì)而受到明顯影響.與此同時,沉積薄膜的過程中發(fā)生了明顯變化.實驗中觀察到,在外在磁場折作用下,等離子體放電的輝光的明亮程度及外貌和靶面自偏壓發(fā)生了明顯變化.進(jìn)一步對沉積薄膜的測量表明,薄膜的沉積速率等發(fā)生了變化,通過對空間磁場進(jìn)行模擬計算發(fā)現(xiàn),由于空間外加的縱向磁場引起了放電空間中以及靶面附近磁場分
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