版權(quán)說明:本文檔由用戶提供并上傳,收益歸屬內(nèi)容提供方,若內(nèi)容存在侵權(quán),請進(jìn)行舉報或認(rèn)領(lǐng)
文檔簡介
1、衍射光柵是一種重要的光學(xué)元件,在光譜測量、光計算、光信息處理等諸多領(lǐng)域有著廣泛的應(yīng)用。隨著光柵應(yīng)用的不斷深入,對其性能要求也逐漸提高,而增大光柵的面積和衍射效率是提高光柵性能的有效途徑。本論文主要基于激光干涉技術(shù),通過調(diào)節(jié)干涉參數(shù)獲得大尺寸的衍射光柵,對其衍射效率進(jìn)行測試分析。結(jié)果發(fā)現(xiàn):光柵槽深是影響其衍射效率的主要原因之一。因此本課題主要圍繞著如何增大衍射光柵槽深的研究展開:一方面通過有機-無機材料雜化的方法增大記錄材料厚度,進(jìn)而經(jīng)光
2、刻得到大槽深衍射光柵;另一方面在雙光束激光干涉法及熱處理制得無機薄膜光柵的基礎(chǔ)上,利用化學(xué)刻蝕方法增大其槽深。 實驗通過調(diào)整雙光束激光干涉光路中的干涉光束入射角θ、激光束束斑半徑R0、凹透鏡臨界發(fā)散角δ、平行光鏡焦距f等參數(shù),計算并設(shè)計出能實現(xiàn)干涉條紋周期為833nm、曝光場直徑為30.6mm的光路,并利用該干涉光路在ZrO2感光凝膠薄膜上成功制備了該衍射光柵,表面鍍金后其衍射效率可達(dá)60%以上。 ZrO2凝膠薄膜光柵經(jīng)
3、600℃熱處理后,槽深隨薄膜厚度從約200nm急劇下降到不足50nm,致使光柵衍射效率銳減至2%以下。實驗探索得到新的記錄材料,即以感光TiO2溶膠、甲基丙烯酸丁酯為主要原料,以過氧化二苯甲酰引發(fā)劑配制聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)/TiO2有機-無機雜化材料,對其進(jìn)行紫外、紅外波譜測試,結(jié)果表明該薄膜在紫外區(qū)具有良好的感光性。采用UV-掩模法制備得到了周期為250μm,槽深可達(dá)5.58μm的衍射光柵。 而對于高密度衍射光柵而言,
4、在激光干涉的基礎(chǔ)上,結(jié)合化學(xué)刻蝕法以增大其槽深。實驗分別采用KOH溶液和添加異丙醇至過量的KOH溶液(KOH+IPA溶液)對其進(jìn)行化學(xué)刻蝕,將周期為250μm的(100)Si基ZrO2光柵的槽深從0.08μm增大到了5μm以上,發(fā)現(xiàn)KOH+IPA溶液的腐蝕效果優(yōu)于KOH溶液;另外,采用34wt%KOH+IPA溶液對周期為833nm的(100)Si基ZrO2衍射光柵進(jìn)行腐蝕,使光柵的槽深由不足50nm增大到約200nm,衍射效率從不足2%
溫馨提示
- 1. 本站所有資源如無特殊說明,都需要本地電腦安裝OFFICE2007和PDF閱讀器。圖紙軟件為CAD,CAXA,PROE,UG,SolidWorks等.壓縮文件請下載最新的WinRAR軟件解壓。
- 2. 本站的文檔不包含任何第三方提供的附件圖紙等,如果需要附件,請聯(lián)系上傳者。文件的所有權(quán)益歸上傳用戶所有。
- 3. 本站RAR壓縮包中若帶圖紙,網(wǎng)頁內(nèi)容里面會有圖紙預(yù)覽,若沒有圖紙預(yù)覽就沒有圖紙。
- 4. 未經(jīng)權(quán)益所有人同意不得將文件中的內(nèi)容挪作商業(yè)或盈利用途。
- 5. 眾賞文庫僅提供信息存儲空間,僅對用戶上傳內(nèi)容的表現(xiàn)方式做保護處理,對用戶上傳分享的文檔內(nèi)容本身不做任何修改或編輯,并不能對任何下載內(nèi)容負(fù)責(zé)。
- 6. 下載文件中如有侵權(quán)或不適當(dāng)內(nèi)容,請與我們聯(lián)系,我們立即糾正。
- 7. 本站不保證下載資源的準(zhǔn)確性、安全性和完整性, 同時也不承擔(dān)用戶因使用這些下載資源對自己和他人造成任何形式的傷害或損失。
最新文檔
- THz光柵結(jié)構(gòu)UV-LIGA光刻工藝研究.pdf
- 光刻工藝123
- 掩模板光刻工藝研究.pdf
- 光刻工藝畢業(yè)論文
- 聚酰亞胺光刻工藝研究和改進(jìn).pdf
- UV-LIGA技術(shù)光刻工藝的研究.pdf
- 微電子工藝 光刻工藝 課程論文
- 衍射光柵制備工藝的研究.pdf
- 光學(xué)光刻工藝中的光強分布模擬.pdf
- 消除TrenchMOS表面靜電的光刻工藝改進(jìn).pdf
- 0.35微米bicmos光刻工藝參數(shù)的優(yōu)化
- 光刻工藝中的曲面膠厚檢測.pdf
- 有機聚合物光波導(dǎo)光刻工藝.pdf
- 0.18微米存儲器光刻工藝參數(shù)的優(yōu)化研究
- 垂直腔面發(fā)射激光器光刻工藝研究.pdf
- 石英玻璃內(nèi)飛秒激光光刻光柵衍射效率的研究.pdf
- 光刻工藝重復(fù)圖形失效問題分析和防范.pdf
- 半導(dǎo)體光刻工藝中圖形缺陷問題的研究及解決.pdf
- 光柵衍射
- 光刻工藝層間套準(zhǔn)精度技術(shù)的研究和改進(jìn).pdf
評論
0/150
提交評論