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1、隨著記錄密度的進(jìn)一步提高,傳統(tǒng)的磁存儲(chǔ)以及光存儲(chǔ)受到了超順磁效應(yīng)及光學(xué)衍射極限等問(wèn)題的限制,熱輔助磁記錄以及垂直磁記錄等技術(shù)有望實(shí)現(xiàn)超高密度磁記錄。L10結(jié)構(gòu)的CoPt(FePt)合金具有高達(dá)5J/cm3(6.6-10J/cm3)的垂直磁各向異性能,因此很適合作為熱輔助磁記錄以及超高密度垂直磁記錄介質(zhì)材料。本文采用磁控濺射的方法制備了一系列CoPt納米復(fù)合膜,并結(jié)合熱輔助磁記錄以及超高密度垂直磁記錄介質(zhì)的特性做了一系列的研究,得到了一系
2、列有意義的結(jié)果。 (1)采用磁控濺射多層膜先驅(qū)體結(jié)合真空退火的方法制備了CoPtCu納米薄膜,并研究了退火溫度等制備條件對(duì)薄膜結(jié)構(gòu)與性能的影響。研究表明,退火后的CoPtCu納米薄膜在常溫下具有很大的矯頑力Hc(9.1kOe)以及很高的飽和磁化強(qiáng)度Ms(600emu/cm3),能夠很好地滿足熱輔助磁記錄方式對(duì)記錄介質(zhì)在常溫下的部分要求,但其溫度特性以及其它性能還有待進(jìn)一步研究。 (2)作者采用Ag作為非磁性基質(zhì),利用磁控
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