高精度定位平臺標定技術.pdf

1、高精度定位平臺標定技術是對高精度平臺的定位結果進行測量和分析.高精度定位平臺是MEMS精密作業(yè)裝備中的關鍵部分,主要實現裝配過程中的納米級精度和分辨率的精微調整.隨著MEMS技術的發(fā)展,顯微鏡下的手工裝配已不能滿足MEMS批量化和產品化的要求.因此MEMS精密作業(yè)裝備是MEMS研究和開發(fā)的重要基礎.所以高精度定位平臺對于微電子工業(yè)發(fā)展也有著非常重要的作用.通常對于如此高精度的定位平臺,都要有一定精度的計量設備予以標定,對于這種標定技術的

2、研究成為了更加關鍵的問題.高精度定位平臺的標定技術主要涉及微位移測量技術和平臺標定技術這兩個方面.本文的研究也是從這兩個方面展開的,主要包括以下三個部分:1、概述了高精度位移測量和定位技術的國際國內發(fā)展情況,介紹了多種微位移測量和定位方法,并對它們各自的優(yōu)缺點進行了總結和比較.在此基礎上,對光學測量方法中的激光干涉儀技術進行了論述,對目前世界上較先進的激光干涉儀性能進行了分析比較.2、闡述了激光干涉儀的微位移測量原理,并比較了雙頻激光干

3、涉儀和單頻激光干涉儀的優(yōu)缺點.對于激光干涉儀在測量過程中將出現的各種誤差進行了分析研究.在以上各種工作的基礎上,為本課題選定了微位移測量儀器為東京精密生產的單頻激光干涉儀測量系統(tǒng)L-LM-20B.3、以單頻激光干涉儀L-LM-20B為中心,建立了標定測量系統(tǒng).闡明了系統(tǒng)設計原理.對系統(tǒng)的各種誤差提出了補償方法,確定了誤差的大小.提出了系統(tǒng)的標定工作重點,并對標定系統(tǒng)本身的標定方法進行了分析.最后在這些工作的基礎上,搭建了標定測量系統(tǒng)的初