磁控反應(yīng)濺射制備VO-,2-薄膜研究.pdf_第1頁
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文檔簡介

1、　 本文采用磁控反應(yīng)濺射沉積，并結(jié)合熱處理的方法制備了二氧化釩薄膜，　通過多個樣品對比分析，研究了磁控濺射方法制備薄膜的主要工藝參數(shù)(反應(yīng)氣體分壓、襯底溫度、濺射功率等)對薄膜組分和性能的影響?！?用兩種熱處理方法制備了二氧化釩薄膜：a.在常溫襯底上反應(yīng)濺射制得高價態(tài)的氧化釩薄膜，再對其進(jìn)行熱處理，使其還原變成低價態(tài)的二氧化釩薄膜；b.在加熱襯底上，通過控制襯底溫度和反應(yīng)氣體分壓，直接濺射制備出二氧化釩薄膜。用XRD、XPS

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