TiN薄膜的制備及腐蝕磨損性能研究.pdf_第1頁
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文檔簡介

1、論文采用兩種典型技術(shù)—多弧離子鍍和磁過濾陰極弧離子鍍技術(shù)制備出不同成分、結(jié)構(gòu)和性能的TiN薄膜。借助X射線衍射(XRD)、場發(fā)射掃描電鏡(FESEM)、輝光放電光譜儀(GDOES)對薄膜的結(jié)構(gòu)和成分進(jìn)行了表征。用HH-3000自動(dòng)劃痕試驗(yàn)機(jī)、LecoM-400-H1型顯微硬度計(jì)和HT-2001型球-盤磨損實(shí)驗(yàn)機(jī)等測試了薄膜的機(jī)械性能和耐磨性,PS-168型電化學(xué)測試系統(tǒng)評價(jià)了基體與薄膜的耐腐蝕性能。研究結(jié)果表明:
   采用多弧

2、離子鍍和磁過濾技術(shù)制備出了平整致密,斷面為具有層疊狀冰川特征的柱狀晶結(jié)構(gòu)TiN薄膜,薄膜僅有TiN相出現(xiàn),且在(220)方向上擇優(yōu)取向。當(dāng)偏壓300V,氮分壓0.6Pa時(shí),氮化鈦薄膜厚度、硬度及結(jié)合強(qiáng)度等綜合性能較好,過濾磁場電流為6.5A時(shí),薄膜的各項(xiàng)指標(biāo)相對最優(yōu)。
   其它工藝參數(shù)相同的條件下,偏壓300V和氮分壓0.6Pa時(shí)制備的TiN薄膜具有相對最佳的耐磨減摩效果;過濾磁場電流為6.5A時(shí),TiN薄膜摩擦磨損性能優(yōu)異。

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