偏振光操控的表面等離子激元超分辨納米結(jié)構(gòu)產(chǎn)生和光刻技術(shù).pdf

1、隨著微納科學的蓬勃發(fā)展，現(xiàn)代科學和技術(shù)對于器件的微型化、集成化要求越來越高，高精度微納器件的精細加工技術(shù)越來越受到人們的關(guān)注。目前半導體元器件和微結(jié)構(gòu)加工中應(yīng)用最為廣泛的傳統(tǒng)光刻技術(shù)由于光學衍射極限的存在，使其分辨率存在無法突破的極限。表面等離子激元具有近場局域增強和納米聚焦的優(yōu)異特性，為突破衍射極限的高分辨率光刻技術(shù)開辟了一條新的途徑。本文提出了一種利用偏振光操控的表面等離子激元超分辨納米結(jié)構(gòu)產(chǎn)生和等離子激元干涉光刻技術(shù)。得到如下主要

2、結(jié)果：
　　 (1)通過設(shè)計合適的二維光柵周期和控制入射光的偏振態(tài)，滿足表面等離子激元的波矢匹配條件，可實現(xiàn)多模式表面等離子激元超分辨干涉。當表面等離子激元波矢滿足四模式匹配條件時，我們可通過改變線偏振光的偏振角度得到一維光柵結(jié)構(gòu)或二維點陣結(jié)構(gòu)，即不改變位相模板，僅通過改變?nèi)肷涔獾钠駹顟B(tài)實現(xiàn)納米結(jié)構(gòu)調(diào)控；如果用圓偏振光代替線偏振光可以進一步提高納米點陣的周期。
　　 (2)當表面等離子激元波矢滿足六模式匹配條件時，可以