版權(quán)說(shuō)明:本文檔由用戶提供并上傳,收益歸屬內(nèi)容提供方,若內(nèi)容存在侵權(quán),請(qǐng)進(jìn)行舉報(bào)或認(rèn)領(lǐng)
文檔簡(jiǎn)介
1、水滑石(LDHs)是一種由帶正電荷的層板及帶負(fù)電荷的層間陰離子層層堆積而成的陰離子型層狀化合物,主體層板與客體陰離子的結(jié)合力主要包括靜電作用力、與吸附水間氫鍵作用力及范德華力等。LDHs具有層板金屬元素多樣性及層間距的可調(diào)性,層間陰離子具有種類的多樣性及可交換性,這些特點(diǎn)賦予了其作為多種功能材料的特性。因此,LDHs在催化、吸附、電化學(xué)、醫(yī)藥、農(nóng)藥、磁性和軍工材料等諸多領(lǐng)域獲得了廣泛應(yīng)用。
目前,LDHs作為粉體功能材料的研究
2、較為成熟,而對(duì)LDHs薄膜功能材料的研究較少,因此,將LDHs薄膜化,并進(jìn)一步開發(fā)其作為超疏水耐腐蝕材料、膜催化材料、電極材料、光學(xué)磁學(xué)材料具有廣闊的前景。近年來(lái),國(guó)內(nèi)外研究LDHs薄膜的制備主要集中于膠體沉積法、旋轉(zhuǎn)涂膜法等物理成膜技術(shù),且對(duì)于原位制備LDHs薄膜的研究主要基于金屬鋁模板。本文采用原位合成法分別在Fe、Al、Zn模板上制備了LDHs薄膜材料,具有成膜工藝簡(jiǎn)單、產(chǎn)物顆粒細(xì)小且分布均勻、與基體結(jié)合牢固、不易脫落等優(yōu)點(diǎn)。且金
3、屬模板可為反應(yīng)提供M2+/M3+,節(jié)省原料。
基于FexOy/Fe模板原位合成Ni/Fe-LDHs/Fe薄膜。FexOy/Fe模板的制備工藝為:鈦板為陰極,10V電壓拋光3min,然后以鈦板為雙陰極,在0.3% NH4F的乙二醇水溶液100mL+3mL去離子水中,30V電壓氧化1h。原位合成LDHs/Fe薄膜的最佳工藝條件為:c(Ni2+)=0.1mol/L,初始反應(yīng)液pH6.0±0.2,反應(yīng)溫度30℃,反應(yīng)時(shí)間3d。表征結(jié)果
4、顯示,樣品結(jié)晶度較高,晶型單一,呈層狀結(jié)構(gòu),且垂直于基板生長(zhǎng)。
采用原位合成法制備磺基水楊酸插層 LDHs功能薄膜,XRD分析顯示,(003)晶面衍射角2θ由9.76°偏移至7.46°,對(duì)應(yīng)層間距d003由0.905nm擴(kuò)至1.184nm,表明磺基水楊酸根已成功引入主體層板間。UV分析表明,插層量為14.71%,較磺基水楊酸具有更寬的吸收范圍。
基于 Al模板采用“雙金屬基底同時(shí)浸泡法”原位合成 Cu/Al-NO3-
5、-LDHs薄膜,其最佳工藝條件為:初始反應(yīng)液pH6.5-7.0,反應(yīng)溫度70℃,初始c(NH4+)=1.0mol/L,反應(yīng)時(shí)間3d(攪拌)。薄膜晶型單一,結(jié)晶度較高,呈層狀結(jié)構(gòu),且垂直于基板生長(zhǎng)。
采用原位合成法制備了苯甲酸插層LDHs/Al薄膜。通過(guò)XRD表征,(003)晶面衍射角2θ由9.92°偏移至6.88°,對(duì)應(yīng)層間距d003由0.898nm擴(kuò)至1.283nm。UV分析表明,插層量為9.64%,較苯甲酸具有更寬的吸收范
6、圍。
基于ZnO/Zn模板采用“雙金屬基底同時(shí)浸泡法”原位合成Zn/Al-CO32--LDHs薄膜。ZnO/Zn模板的制備工藝為:鈦板為陰極,5V電壓拋光5min,然后以鈦板作雙陰極,1mol/L H2SO4為電解質(zhì)溶液,1V電壓氧化3min。原位合成LDHs/Zn薄膜的最佳工藝條件為:初始反應(yīng)氨濃度0.16mol/L,反應(yīng)溫度70℃,反應(yīng)時(shí)間3d(攪拌)。表征結(jié)果顯示,所得樣品晶型單一,結(jié)晶度較高,且呈六邊形層狀結(jié)構(gòu)。
溫馨提示
- 1. 本站所有資源如無(wú)特殊說(shuō)明,都需要本地電腦安裝OFFICE2007和PDF閱讀器。圖紙軟件為CAD,CAXA,PROE,UG,SolidWorks等.壓縮文件請(qǐng)下載最新的WinRAR軟件解壓。
- 2. 本站的文檔不包含任何第三方提供的附件圖紙等,如果需要附件,請(qǐng)聯(lián)系上傳者。文件的所有權(quán)益歸上傳用戶所有。
- 3. 本站RAR壓縮包中若帶圖紙,網(wǎng)頁(yè)內(nèi)容里面會(huì)有圖紙預(yù)覽,若沒(méi)有圖紙預(yù)覽就沒(méi)有圖紙。
- 4. 未經(jīng)權(quán)益所有人同意不得將文件中的內(nèi)容挪作商業(yè)或盈利用途。
- 5. 眾賞文庫(kù)僅提供信息存儲(chǔ)空間,僅對(duì)用戶上傳內(nèi)容的表現(xiàn)方式做保護(hù)處理,對(duì)用戶上傳分享的文檔內(nèi)容本身不做任何修改或編輯,并不能對(duì)任何下載內(nèi)容負(fù)責(zé)。
- 6. 下載文件中如有侵權(quán)或不適當(dāng)內(nèi)容,請(qǐng)與我們聯(lián)系,我們立即糾正。
- 7. 本站不保證下載資源的準(zhǔn)確性、安全性和完整性, 同時(shí)也不承擔(dān)用戶因使用這些下載資源對(duì)自己和他人造成任何形式的傷害或損失。
最新文檔
- 氧化銦錫薄膜制備工藝及薄膜性能研究.pdf
- 37936.電化學(xué)輔助原位合成ldhs薄膜的工藝及其性能研究
- LDHs薄膜的取向生長(zhǎng)及性能研究.pdf
- 24287.氧化鈦基光陽(yáng)極薄膜的制備及性能測(cè)試
- 氧化鉿薄膜制備工藝及其性能研究.pdf
- 醫(yī)用鈦合金表面陽(yáng)極氧化膜的制備工藝及性能研究.pdf
- 透明納米氧化鈦功能薄膜的低溫制備及性能研究.pdf
- 氧化鎵薄膜的制備及性能研究.pdf
- 中溫SOFC直接氧化陽(yáng)極制備及性能研究.pdf
- 基于陽(yáng)極氧化法的多孔氧化鎢氣敏薄膜的制備與研究.pdf
- 釔摻雜氧化鉿薄膜的溶膠-凝膠制備工藝及性能研究.pdf
- 噴霧熱解法制備氧化錫薄膜工藝及性能研究.pdf
- 氧化鎢薄膜的制備、結(jié)構(gòu)及性能研究.pdf
- 醫(yī)用純鈦陽(yáng)極氧化工藝及性能研究.pdf
- 氯氧化鉍(BiOCl)納米功能薄膜材料的制備、結(jié)構(gòu)及性能研究.pdf
- 氧化鈦薄膜的制備工藝及其光電性能研究.pdf
- 中溫sofc直接氧化陽(yáng)極制備及性能研究
- 石墨烯功能薄膜的制備及性能研究.pdf
- 負(fù)載無(wú)機(jī)活性粒子的多孔陽(yáng)極氧化鋁薄膜制備及生物學(xué)性能研究.pdf
- 氧化鎳功能材料的電沉積制備工藝及性能研究.pdf
評(píng)論
0/150
提交評(píng)論