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1、近年來(lái),微電子行業(yè)快速發(fā)展,對(duì)于電子產(chǎn)品的封裝要求也越來(lái)越高,就促使封裝行業(yè)的關(guān)鍵技術(shù)獲得進(jìn)一步改進(jìn),其中硅通孔技術(shù)的出現(xiàn)將封裝業(yè)帶入了一個(gè)新的轉(zhuǎn)折點(diǎn),但是隨著尺寸的微細(xì)化,硅通孔技術(shù)作為一項(xiàng)新的技術(shù),也存在很多問(wèn)題,考慮到封裝的疲勞和失效,其中對(duì)于三維堆疊封裝結(jié)構(gòu)的熱可靠性分析成為了該項(xiàng)技術(shù)發(fā)展的關(guān)鍵。為了避免封裝結(jié)構(gòu)關(guān)鍵部位在熱載荷的作用下發(fā)生熱變形失效,本文進(jìn)行了以下幾個(gè)方面的研究。
首先,研究了電鍍銅使用不同的材料屬性
2、參數(shù),單個(gè)硅通孔在熱沖擊溫度載荷下的熱機(jī)械響應(yīng)。經(jīng)過(guò)多次有限元分析,得出兩者應(yīng)力大小和分布的不同,總結(jié)應(yīng)力大小分布發(fā)生的機(jī)理,進(jìn)一步研究了結(jié)構(gòu)參數(shù)對(duì)于單個(gè)硅通孔熱機(jī)械可靠性的影響。對(duì)比了相同結(jié)構(gòu)參數(shù)下單個(gè)硅通孔在二維模型和三維模型下的分析結(jié)果。經(jīng)過(guò)多次建模分析,得出了在兩種模型下,硅通孔的應(yīng)力大小和分布的相同點(diǎn)和不同點(diǎn)。
其次,用解析法和數(shù)值方法聯(lián)合研究二維俯視圖和軸向圖簡(jiǎn)化結(jié)構(gòu)的適用范圍,通過(guò)探究得出,芯片堆疊封裝用二維軸向
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