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文檔簡(jiǎn)介
1、光電成像系統(tǒng)目標(biāo)獲取性能的預(yù)測(cè)和評(píng)估在光電成像總體技術(shù)中占有舉足輕重的位置,大氣環(huán)境、光電成像系統(tǒng)本身和目標(biāo)背景特性都會(huì)影響光電成像系統(tǒng)的目標(biāo)獲取性能。隨著光學(xué)系統(tǒng)、探測(cè)器以及電路設(shè)計(jì)的不斷改進(jìn),光電成像系統(tǒng)本身對(duì)目標(biāo)獲取性能影響的減弱,使得目標(biāo)背景特性逐漸成為影響光電成像系統(tǒng)目標(biāo)獲取性能越來越重要的因素,因此,對(duì)目標(biāo)背景特性的正確理解與科學(xué)量化是建立更完善、準(zhǔn)確的光電成像系統(tǒng)性能預(yù)測(cè)模型的關(guān)鍵。針對(duì)此問題,本文研究了一種新型基于嵌入式
2、隱馬爾可夫模型的背景雜波量化尺度,并利用它對(duì)已有的目標(biāo)獲取性能模型進(jìn)行了修正。
首先,本文從人眼視覺獲取目標(biāo)過程出發(fā),綜合考慮目標(biāo)和背景圖像的二維特性,采用二維數(shù)學(xué)模型——嵌入式隱馬爾可夫模型來表征圖像特性;由于目標(biāo)不同,雜波的理解也會(huì)有所改變,因此,本文在進(jìn)行特征提取時(shí)自適應(yīng)地設(shè)置不同目標(biāo)對(duì)象的參數(shù);同時(shí),采用與觀察者觀察并記錄目標(biāo)的物理機(jī)制相一致的最優(yōu)化模型參數(shù)訓(xùn)練過程,通過解碼過程獲得產(chǎn)生目標(biāo)、背景觀察序列的可能狀態(tài)路徑
3、并記錄其出現(xiàn)的概率,這個(gè)概率可以表征該模型與此觀察序列矩陣的匹配程度,最終通過統(tǒng)計(jì)分析定量表征目標(biāo)與背景的相似程度,這個(gè)過程緊緊圍繞背景雜波的重要特性(與目標(biāo)的相似性特性)展開,而且這個(gè)過程與觀察者在探測(cè)目標(biāo)時(shí)總能實(shí)現(xiàn)路徑最優(yōu)化的過程是一致的。因此,相比以往的雜波尺度,本文建立的基于嵌入式隱馬爾可夫模型的背景雜波尺度(EHMMC)與主觀試驗(yàn)數(shù)據(jù)有更好的一致性。
接下來,本文采用基于嵌入式隱馬爾可夫模型的背景雜波尺度對(duì)復(fù)雜背景下
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