基于表面解吸常壓化學(xué)電離源的離子遷移譜儀研究.pdf

1、近年來，恐怖襲擊行徑頻頻發(fā)生，販毒和走私活動(dòng)日益猖獗，環(huán)境惡化越來越嚴(yán)重，為了切實(shí)加強(qiáng)對(duì)這些過程進(jìn)行控制，迫切需要開發(fā)一種快速、靈敏、便攜的檢測(cè)儀器。離子遷移譜技術(shù)（Ion Mobility Spectrometry,IMS）以其檢測(cè)速度快、靈敏度高、體積小、功耗低等眾多優(yōu)點(diǎn)，被普遍應(yīng)用于爆炸物、毒品、化學(xué)戰(zhàn)劑和環(huán)境污染物的分析檢測(cè)中?，F(xiàn)有的商業(yè)化離子遷移譜儀器上廣泛使用的離子源為放射性元素的電離源，具有穩(wěn)定性好、功耗低、信噪比高、使用

2、方便等優(yōu)點(diǎn)。然而這類電離源電離效率低、線性范圍窄，尤其是具有放射性污染，從而制約了IMS技術(shù)的發(fā)展，新型離子源的研制與開發(fā)對(duì)于推動(dòng)離子遷移譜技術(shù)的發(fā)展具有特別重要的意義,現(xiàn)在關(guān)于離子遷移譜的研究主要包括基于各種新型離子源的理論、裝置、技術(shù)與方法的研究。
　　針對(duì)此問題，本文嘗試選用表面解吸常壓化學(xué)電離源（DesorptionAtomspheric Pressure Chemical Ionization,DAPCI）作為離子遷移譜

3、儀電離源。表面解吸常壓化學(xué)電離技術(shù)是一種用于直接分析樣品表面的電離技術(shù)，該電離技術(shù)除了具有無放射性污染的優(yōu)點(diǎn)外，還具有結(jié)構(gòu)簡單、操作便攜、無化學(xué)污染、便于與小型分析儀器聯(lián)用等優(yōu)點(diǎn)，被廣泛應(yīng)用在食品安全、國防安全、刑事偵查等諸多領(lǐng)域。這些優(yōu)點(diǎn)都進(jìn)一步加深人們對(duì)DAPCI和IMS的認(rèn)識(shí)，繼續(xù)加強(qiáng)DAPCI和IMS的相關(guān)研究，以后發(fā)展新型的離子遷移譜儀以及拓展相關(guān)應(yīng)用奠定了堅(jiān)實(shí)的基礎(chǔ)。
　　本文將表面解吸常壓化學(xué)電離技術(shù)（DAPCI）與

4、離子遷移譜（IMS）技術(shù)聯(lián)用，在離子遷移譜儀研究背景和現(xiàn)狀進(jìn)行簡要分析的基礎(chǔ)上，詳細(xì)闡述了表面解吸常壓化學(xué)電離離子遷移譜儀的原理和結(jié)構(gòu)。在前期大量實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)分析的基礎(chǔ)上，自主研制、開發(fā)IMS專用DAPCI源，構(gòu)建DAPCI-IMS研究平臺(tái)，選取爆炸物標(biāo)準(zhǔn)樣品，考察實(shí)驗(yàn)條件對(duì)DAPCI-IMS工作性能的相互作用，比較引入DAPCI電離源前后對(duì)離子遷移譜系統(tǒng)靈敏度與分析性能的影響；研究DAPCI-IMS的工作機(jī)理，掌握其工作規(guī)律。在此基礎(chǔ)上，