集成電路工業(yè)含氟廢水處理技術研究與應用.pdf

1、本文綜述了含氟廢水的來源及其處理技術，并以集成電子工業(yè)的含氟廢水為研究對象，進行了化學沉淀法處理堿性低濃度含氟廢水的研究。研究內容主要包括：(1)含氟廢水的處理方法及其技術進展；(2)僅投加氫氧化鈣的簡單沉淀處理含氟廢水的研究；(3)僅投加氯化鈣的簡單沉淀處理含氟廢水的研究；(4)采用混凝沉淀的方法處理含氟廢水的研究；(5)化學混凝沉淀法處理含氟廢水工藝設計與運行。研究結果表明：(1)采用沉淀法處理含氟廢水時，選用氫氧化鈣作為鈣鹽的處理

2、效果要優(yōu)于氯化鈣作為鈣鹽。當氫氧化鈣投加量為200％時的出水效果最好，并且該因素是決定出水效果的關鍵性因素；(2)氫氧化鈣+聚鐵+PAM的處理流程和氫氧化鈣+Heldy-F+PAM的處理流程在技術上均可行，但是綜合經濟和最后出水效果上分析比較，后方案更佳；(3)影響含氟廢水處理的因素有反應pH值、鈣鹽投加量、混凝劑的種類及其投加量、絮凝劑種類及其投加量和靜置時間等；(4)經氫氧化鈣+Heldy-F+PAM的流程處理后的出水含氟濃度在5.