微波電子回旋共振法沉積的非晶碳化硅薄膜結構和性能研究.pdf_第1頁
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文檔簡介

1、蘇州大學碩士學位論文微波電子回旋共振法沉積的非晶碳化硅薄膜結構和性能研究姓名：賀潔申請學位級別：碩士專業(yè)：材料物理與化學指導教師：寧兆元辛煜20070401AbstractThestructuralmodulabilityandchemicalstabilityofhydrogenatedamorphousSiliconCarbide(aSixCl《：H)fihm1]lakesitsuitableasabarrierlayerforlo

2、wKporousdieleotricfilmsWehaveprepareditusingmicrowaveelectroncyclotronresollailcechemicalvapordeposifion(ECRCVD)methodunderdifferentsubstratetemperatureandgasflowratiosRR早【CH4】／(【CH4】【SiH4】【Ar】)Theplasmapropertiesstructu

3、ralevolutionandpropel啦esofthepreparedaSixCtx：Hfilmswe∞investigatedbyanop石calemissionspectroscopy(OES)，F(xiàn)ouriertransforminfraredspectroscopy(FTIR)andultravioletvisible(UVVIS)spectrometerrespectivelyResultsshowsthat：HandCHe

4、missionintensifiesincreasewithRwhilethatofSiHdecrease；theaSixct《：Hfilmsturnedfromsiliconrichstatetocarbonrichstatewiththeincreaseof民itisspeculatedthatthephaseandcompositionevolutionoftheaSixCl《：Hfilmisthecriticalfactorwh

5、ichleadstothechadlgeofthefilmsoptical姍彰Ipanddielectricconstant；thelekagecurrentoflowKporousSiCOHfilmsismuchdecreasedwhilethedielectricconstantdoesn’tchangebydepositinga20nmthickaSil《Cx：HfilmatRequalsto065andsubsUatetempe

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